[发明专利]用于控制膜沉积的方法和设备

权利要求书

1.一种用于在衬底上沉积墨的系统，所述系统包括：

腔室，其用于存储载液和载液中的墨颗粒；

计量装置，其与所述腔室相连通，从而以脉动方式计量所述载液 和所述载液中的墨颗粒的至少一部分；

传输装置，其用于将所述墨从所述腔室传输到排放喷嘴；

蒸发装置，其用于蒸发所述载液，以在所述排放喷嘴处形成固体 的一定数量的墨颗粒；以及

排放装置，其用于将所述固体的墨颗粒从所述排放喷嘴排放到衬 底上。

2.根据权利要求1所述的系统，其中，所述腔室与用于容纳所述 载液的外部贮存器以流体方式连通。

3.根据权利要求1所述的系统，其中，所述腔室限定用于存储墨 的所述载液和所述载液中的墨颗粒的贮存器。

4.根据权利要求2所述的系统，其中，所述计量装置被构造成以 离散脉冲的方式来加热所述腔室。

5.根据权利要求1所述的系统，进一步包括控制装置，其用于控 制所述计量装置和所述排放装置中的至少一个。

6.根据权利要求5所述的系统，其中，所述控制装置进一步包括 处理器，其使用指令来编程，以激活所述计量装置来对所述墨进行计 量，并且此后激活所述排放装置来将所述固体墨颗粒输送到所述衬底。

7.根据权利要求5所述的系统，其中，所述控制装置进一步包括 处理器，其使用指令来编程，以使用脉动能量来激活所述计量装置和 所述排放装置。

8.根据权利要求1所述的系统，其中，所述计量装置被构造成以 离散脉冲的方式对所述腔室进行机械挤压。

9.根据权利要求1所述的系统，其中，所述蒸发装置包括加热器。

10.根据权利要求1所述的系统，其中，所述排放装置包括压电 元件。

11.根据权利要求1所述的系统，其中，所述排放装置包括加热 器。

12.一种在衬底上沉积颗粒的设备，所述设备包括：

用于容纳墨的腔室，所述腔室容纳呈液体形式的、在载液中具有 多个颗粒的墨；

与所述腔室相关联的分配器，所述分配器对从所述腔室输送到排 放喷嘴的墨进行计量，所述排放喷嘴蒸发所述载液，以形成固体的一 定数量的墨颗粒，

其中，所述排放喷嘴相对于所述腔室轴向地旋转，以排放所述固 体的一定数量的墨颗粒；以及

其中，所述排放喷嘴将所述固体的颗粒沉积在衬底上。

13.根据权利要求12所述的设备，进一步包括壳体，其用于容纳 所述腔室和所述排放喷嘴。

14.根据权利要求12所述的设备，进一步包括墨贮存器，其与所 述腔室以流体方式连通。

15.根据权利要求12所述的设备，其中，所述分配器限定加热器， 所述加热器用于对从所述腔室输送出的墨进行计量。

16.根据权利要求12所述的设备，其中，所述分配器限定压电元 件，所述压电元件用于对从所述腔室输送出的墨进行计量。

17.根据权利要求12所述的设备，其中，所述分配器向所述腔室 提供具有幅度和频率的能量脉冲，以对来自所述腔室的墨进行计量。

18.根据权利要求12所述的设备，其中，所述排放喷嘴进一步包 括多个微孔，所述多个微孔接收呈液体形式的所述经过计量的墨，并 将来自所述微孔的固体的一定数量的墨分配到所述衬底上。

19.根据权利要求12所述的设备，其中，所述排放喷嘴进一步包 括用于蒸发所述载液的加热器。

20.根据权利要求12所述的设备，其中，所述排放喷嘴蒸发所述 固体的颗粒，以将所述颗粒以气态的形式排放到所述衬底上。