[发明专利]光电子半导体芯片有效
申请号: | 200880021671.9 | 申请日: | 2008-06-23 |
公开(公告)号: | CN101689591A | 公开(公告)日: | 2010-03-31 |
发明(设计)人: | 斯特凡·格勒奇;诺贝特·林德 | 申请(专利权)人: | 欧司朗光电半导体有限公司 |
主分类号: | H01L33/00 | 分类号: | H01L33/00 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 | 代理人: | 陈 炜;许伟群 |
地址: | 德国雷*** | 国省代码: | 德国;DE |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光电子 半导体 芯片 | ||
1.一种光电子半导体芯片(1),具有:
-辐射穿通面(3),
-接触金属化物(2a),其被施加到辐射穿通面(3)上,以 及
-第一反射性层序列(2b),其被施加到接触金属化物(2a) 的背离辐射穿通面(3)的表面上,其中反射性层序列(2b)设 计用于对朝着接触金属化物(2a)向回反射的电磁辐射进行反射,
其中,至少一个电流分布轨(9)被施加到辐射穿通面(3) 上,其中所述电流分布轨(9)导电地与接触金属化物(2a)相 连,并且
所述电流分布轨(9)具有电流分布金属化物(9a)以及第 二反射性层序列(9b),所述第二反射性层序列(9b)被施加到 电流分布金属化物(9a)的背离辐射穿通面(3)的表面上,其 中第二反射性层序列(9b)设计用于对朝着电流分布金属化物 (9a)向回反射的电磁辐射进行反射。
2.根据权利要求1所述的光电子半导体芯片,其中第一反 射性层序列(2b)包括至少一个如下层:所述层包含金属。
3.根据权利要求2所述的光电子半导体芯片,其中第一反 射性层序列(2b)包括至少一个如下层(22):所述层包含金属 铝、银的至少之一。
4.根据权利要求1所述的光电子半导体芯片,其中第一反 射性层序列(2b)包括至少一个如下层(22):所述层包含介电 材料。
5.根据权利要求1所述的光电子半导体芯片,其中第一反 射性层序列(2b)形成布拉格反射器。
6.根据权利要求1所述的光电子半导体芯片,其中第二反 射性层序列(9b)包括至少一个如下层:所述层包含金属,尤其 是铝和/或银。
7.根据权利要求1所述的光电子半导体芯片,其中第二反 射性层序列(9b)包括至少一个如下层(99):所述层包含介电 材料。
8.根据权利要求1所述的光电子半导体芯片,其中第二反 射性层序列(9b)形成布拉格反射器。
9.一种光电子半导体器件,具有:
-根据权利要求1所述的光电子半导体芯片(1),以及
-在发射方向上设置在光电子半导体芯片(1)之后的光学 滤波元件(11),该光学滤波元件适合于透射具有第一辐射特性 的第一辐射成分而反射具有与第一辐射特性不同的第二辐射特 性的第二辐射成分。
10.根据权利要求9所述的光电子半导体器件,其中光学滤 波元件(11)包括二色性滤波器。
11.根据权利要求9所述的光电子半导体器件,其中光学滤 波元件(11)包括偏振滤波器。
12.根据权利要求9所述的光电子半导体器件,其中光学滤 波元件(11)包括角度滤波器。
13.根据权利要求9所述的光电子半导体器件,其中光学滤 波元件(11)包括发光转换材料。
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