[发明专利]制备太阳能级硅和光电池的方法无效
申请号: | 200880021767.5 | 申请日: | 2008-05-20 |
公开(公告)号: | CN101687649A | 公开(公告)日: | 2010-03-31 |
发明(设计)人: | T·F·麦努蒂;J·T·勒曼;L·N·路易斯;M·P·德'伊维恩;V·L·劳;R·舒巴 | 申请(专利权)人: | 通用电气公司 |
主分类号: | C01B33/025 | 分类号: | C01B33/025 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 吕彩霞;韦欣华 |
地址: | 美国*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 制备 太阳 能级 光电池 方法 | ||
1.一种制造高纯度元素硅的方法,其包括下面的步骤:
(a)通过这样的技术来制备硅胶组合物,该技术包括将至少一种有机 硅烷化合物与含水组合物进行反应,来形成硅胶颗粒;
(b)在该硅胶组合物存在下,将烃物质通过烃裂化反应进行分解,目 的是将由该烃物质分解所形成的碳沉积在硅胶组合物颗粒上;和
(c)将该含碳的硅胶组合物加热到高于大约1550℃的温度,来生产 包含元素硅的产物。
2.权利要求1的方法,其中该有机硅烷包含具有式SiHw(R′)xCly(OR)z的化合物;其中0≤w,x≤2;0≤y,z≤4;w+x+y+z=4;y+z≥2;和
R和R′每个独立的选自烷基基团、芳基基团和酰基基团。
3.权利要求2的方法,其中该有机硅烷选自Si(OCH3)4、SiH(OCH3)3、 Si(OC2H5)4、SiH(OC2H5)3和前述任意的组合。
4.权利要求1的方法,其中步骤(c)是在竖炉中进行的。
5.权利要求1的方法,其中该含水组合物包含水。
6.权利要求1的方法,其作为一种连续的方法来实施。
7.权利要求1的方法,其中步骤(a)是在至少一种选自下面的另外的 化合物存在下进行的:醇、酸性催化剂和碱性催化剂。
8.权利要求1的方法,其中在步骤(a)之后,对硅胶组合物进行清洗。
9.权利要求1的方法,其中该硅胶组合物包含硼。
10.权利要求9的方法,其中硼的浓度低于大约1ppmw。
11.权利要求1的方法,其中该硅胶组合物包含磷。
12.权利要求11的方法,其中磷的浓度低于大约1ppmw。
13.权利要求1的方法,其中对元素硅进行分离和净化。
14.权利要求13的方法,其中净化是通过包括清洗的技术来实施的。
15.权利要求1的方法,其中在步骤(c)的硅胶组合物中,二氧化硅 的平均粒度范围是大约0.01微米-大约400微米。
16.权利要求1的方法,其中该硅胶组合物颗粒的平均表面积范围是 大约10m2/g-大约3000m2/g。
17.一种制造光电池的方法,其包括下面的步骤:
(A)如下来制备高纯度元素硅:加热硅胶组合物或者衍生自硅胶组 合物的中间组合物,其中该硅胶组合物或者中间组合物包含至少大约5 重量%的碳,并且该加热温度高于大约1550℃,来生产一种包含元素硅 的产物;
(B)由该元素硅形成半导体基底;和
(C)在该半导体基底之内或者之上形成至少一种p-n结。
18.一种制造光电池的方法,其包括下面的步骤:
(i)通过这样的技术来制备硅胶组合物,该技术包括将至少一种有机 硅烷化合物与含水组合物进行反应,来形成硅胶颗粒;
(ii)在该硅胶组合物存在下,将烃物质通过烃裂化反应进行分解,目 的是将由该烃物质分解所形成的碳沉积在凝胶组合物颗粒上;
(iii)将该含碳的硅胶组合物加热到高于大约1550℃的温度,来生产 包含元素硅的产物;
(iv)分离该元素硅;
(v)由该元素硅形成半导体基底;和
(vi)在该半导体基底之内或者之上形成至少一种p-n结。
19.权利要求18的方法,其中该含水组合物包含水。
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