[发明专利]用于在过程管线中流动的介质的测量系统

权利要求书

1.测量系统，用于测量在过程管线中流动的介质的密度，该介质沿着测量系统的虚拟的流动轴线在热力学状态方面是可变的，该测量系统包括： 

-至少一个温度传感器，其放置于温度测量点 ，主要对于流经的介质的局部温度 作出反应，该温度传感器发出至少一个由被测介质的局部温度 影响的温度测量信号 ； 

-至少一个压力传感器，其放置于压力测量点M_p，主要对于流经的介质的局部的压力p作出反应，该压力传感器发出至少一个由被测介质中的局部压力p影响的压力测量信号X_p； 

-至少一个流动传感器，其放置于流动测量点并且主要对于被测介质的局部流动参数作出反应，并且流动传感器提供至少一个受到局部流动参数影响的流动测量信号；以及 

-测量电子装置，其至少间歇地至少与温度传感器、压力传感器和流动传感器通信，通过使用温度测量信号和压力测量信号以及流动测量信号，测量电子装置至少间歇地产生至少一个密度测量值X_ρ，其瞬时代表流动的介质在虚拟的密度测量点M′_ρ所具有的局部密度ρ，密度测量点沿着流动轴线与压力测量点M_p和/或温度测量点 相距设置。 

2.如权利要求1所述的测量系统，所述介质至少部分是可压缩的，所述局部的压力p是静态的压力，所述至少一个流动传感器主要对于被测介质的局部流动参数的变化作出反应，该流动参数是在过程管线的横截面上平均的流动参数，该流动参数是流速、体积流量或质量流量，所述密度测量值X_ρ是数字的密度测量值，所述密度测量点以可预定的方式沿着流动轴线与压力测量点M_p和/或温度测量点 相距设置。 

3.根据权利要求1所述的测量系统，其中，测量电子装置至少间歇地与流动传感器通信，并且其中测量电子装置通过至少使用流动测 量信号而确定体积流量测量值X_v，其瞬时地代表流动介质的体积流速。 

4.根据权利要求3所述的测量系统，其中，测量电子装置通过至少使用密度测量值和体积流量测量值而确定质量流量测量值X_m，其瞬时地代表流动介质的质量流速。 

5.根据权利要求1所述的测量系统，其中，测量电子装置基于温度测量信号重复生成温度测量值 ，其瞬时地代表介质的局部温度 。 

6.根据权利要求1所述的测量系统，其中，测量电子装置基于压力测量信号重复生成压力测量值X_p，其瞬时地代表在介质中的压力。 

7.根据权利要求1所述的测量系统，其中，虚拟的密度测量点和流动测量点至少部分彼此重叠。 

8.根据权利要求1所述的测量系统，其中，温度测量点和流动测量点至少部分彼此重叠。 

9.根据权利要求1所述的测量系统，其中，压力测量点和流动测量点至少部分彼此重叠。 

10.根据权利要求1所述的测量系统，其中，密度测量值代表介质在流动传感器的区域中的局部密度。 

11.根据权利要求1所述的测量系统，其中，测量电子装置至少间歇地与流动传感器通信，并且其中测量电子装置通过至少使用流动测量信号而确定速度测量值X_v，其瞬时地代表流动介质的流速。 

12.根据权利要求1所述的测量系统，其中，测量电子装置基于压力测量信号以及温度测量信号，确定临时的密度测量值X′_ρ，其代表 流动介质在虚拟的密度测量点所表现的密度。 

13.根据权利要求12所述的测量系统，测量电子装置基于压力测量信号以及温度测量信号，遵循工业标准AGA 8、AGA NX-19、SGERG-88IAWPS-IF97、ISO 12213:2006之一，确定所述临时的密度测量值X′_ρ。