[发明专利]电路连接材料、使用它的电路构件的连接结构及电路构件的连接方法有效

专利信息
申请号: 200880022073.3 申请日: 2008-07-31
公开(公告)号: CN101689410A 公开(公告)日: 2010-03-31
发明(设计)人: 富坂克彦;小林宏治;竹田津润;有福征宏;小岛和良;望月日臣 申请(专利权)人: 日立化成工业株式会社
主分类号: H01B1/22 分类号: H01B1/22;C09J5/00;C09J9/02;C09J11/04;C09J163/00;H01B1/00;H01L21/60;H01R11/01;H05K1/14;H05K3/32;H05K3/36
代理公司: 北京银龙知识产权代理有限公司 代理人: 钟 晶
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 电路 连接 材料 使用 构件 结构 方法
【权利要求书】:

1.电路构件的连接结构,其具备形成有电路电极且所述电路电极以相对 方式进行配置的两个电路构件;以及介于所述电路构件之间使所述电路电极进 行电连接的电路连接构件,

所述两个电路构件中的一方为IC芯片,

所述两个电路构件中的另一方为形成有具有铟-锌氧化物构成的表面的电 路电极的玻璃基板,

所述电路连接构件是对含有粘结剂组合物和导电粒子的电路连接材料加 热加压而成的固化物,所述导电粒子是核体上具有1个或2个以上金属层并具 有突起的导电粒子,至少在所述突起的表面上形成了所述金属层,该金属层的 最外层由镍或镍合金构成,所述导电粒子发生20%压缩时的压缩弹性模量为 400~700kgf/mm2

2.权利要求1所述的电路构件的连接结构,所述突起的高度为65~500nm。

3.权利要求1或2所述的电路构件的连接结构,相邻的所述突起间的距 离为1000nm以下。

4.权利要求1或2所述的电路构件的连接结构,所述粘结剂组合物含有 膜形成材料、环氧树脂及潜伏性固化剂。

5.权利要求3所述的电路构件的连接结构,所述粘结剂组合物含有膜形 成材料、环氧树脂及潜伏性固化剂。

6.权利要求1或2所述的电路构件的连接结构,所述两个电路构件中的 至少一方的表面被选自氮化硅、有机硅化合物及聚酰亚胺树脂中的至少一种物 质进行了涂敷或附着处理。

7.权利要求3所述的电路构件的连接结构,所述两个电路构件中的至少 一方的表面被选自氮化硅、有机硅化合物及聚酰亚胺树脂中的至少一种物质进 行了涂敷或附着处理。

8.权利要求4所述的电路构件的连接结构,所述两个电路构件中的至少 一方的表面被选自氮化硅、有机硅化合物及聚酰亚胺树脂中的至少一种物质进 行了涂敷或附着处理。

9.权利要求5所述的电路构件的连接结构,所述两个电路构件中的至少 一方的表面被选自氮化硅、有机硅化合物及聚酰亚胺树脂中的至少一种物质进 行了涂敷或附着处理。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于日立化成工业株式会社,未经日立化成工业株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200880022073.3/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top