[发明专利]用于局部化功率传送的分布式功率装置

权利要求书

1.一种在基片处理过程中在等离子处理系统中提供局部功率传 送的分布式功率装置，包括：

一组直流(DC)功率供应单元；和

多个功率发生器，所述多个功率发生器配置为接受来自 该组DC功率供应单元的功率，其中所述多个功率发生器的每 个功率发生器耦接至一组电气元件，由此使得所述多个功率发 生器的所述每个功率发生器能够控制所述局部功率传送。

2.根据权利要求1所述的分布式功率装置，其中该组DC功率供 应单元是单个DC功率供应单元，其中DC功率经由轨道装置 分配至所述多个功率发生器。

3.根据权利要求1所述的分布式功率装置，其中该组DC功率供 应单元包括多于一个DC功率供应单元，该组DC功率供应单 元的每个DC功率供应单元耦接到所述多个功率发生器的一 个功率发生器。

4.根据权利要求1所述的分布式功率装置，其中该组DC功率供 应单元的DC功率供应单元位于所述多个功率发生器的所述 每个功率发生器内。

5.根据权利要求1所述的分布式功率装置，其中所述多个功率发 生器是多个射频(RF)发生器。

6.根据权利要求1所述的分布式功率装置，其中所述多个功率发 生器是多个微波发生器。

7.根据权利要求1所述的分布式功率装置，其中功率放大器位于 所述多个功率发生器的所述每个功率发生器内。

8.根据权利要求7所述的分布式功率装置，其中匹配部件位于所 述多个功率发生器的所述每个功率发生器内，所述匹配部件配 置为将所述每个功率发生器内的阻抗与所述等离子处理系统 的处理室的阻抗匹配。

9.根据权利要求8所述的分布式功率装置，其中所述匹配部件配 置为执行不同的匹配技术，包括可变频率和电子交换。

10.根据权利要求1所述的分布式功率装置，其中探针耦接至所述 多个功率发生器的所述每个功率发生器。

11.根据权利要求10所述的分布式功率装置，其中所述探针配置 为至少测量至该组电气元件的所述局部功率传送。

12.根据权利要求11所述的分布式功率装置，其中该组电气元件 是一组电极。

13.根据权利要求11所述的分布式功率装置，其中该组电气元件 是一组天线。

14.根据权利要求1所述的分布式功率装置，进一步包括主控制 器，所述主控制器配置为与所述等离子处理系统交互。

15.根据权利要求14所述的分布式功率装置，其中局部控制器位 于所述多个功率发生器的所述每个功率发生器内，所述局部控 制器配置为与所述主控制器交互，其中交互包括从所述主控制 器接受指令。

16.根据权利要求15所述的分布式功率装置，其中所述主控制器 配置为通过接受来自所述局部控制器的与所述每个功率发生 器有关的状态数据来监测所述每个功率发生器的状态。

17.根据权利要求1所述的分布式功率装置，其中所述多个功率发 生器的所述每个功率发生器是模块化单元，所述每个功率发生 器包括功率放大器模块、匹配部件、探针和局部控制器的至少 一个。

18.根据权利要求1所述的分布式功率装置，其中所述多个功率发 生器配置为能够对网络内的分布式节点阵列进行局部功率控 制。

19.根据权利要求18所述的分布式功率装置，其中所述多个功率 发生器配置为分段的同心环，其中功率发生器设在所述分布式 节点阵列的每个节点处。

20.根据权利要求18所述的分布式功率装置，其中所述多个功率 发生器配置为直线布局，其中功率发生器设在所述分布式节点 阵列的每个节点处。