[发明专利]含耐溶剂性聚(乙烯醇缩醛)的辐射敏感性组合物和元件有效

专利信息
申请号: 200880022552.5 申请日: 2008-06-13
公开(公告)号: CN101689023A 公开(公告)日: 2010-03-31
发明(设计)人: M·莱瓦农;E·卢里;V·坎佩尔 申请(专利权)人: 伊斯曼柯达公司
主分类号: G03F7/033 分类号: G03F7/033;B41C1/10;B41M5/36
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 赵苏林;韦欣华
地址: 美国*** 国省代码: 美国;US
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摘要:
搜索关键词: 溶剂 乙烯 醇缩醛 辐射 敏感性 组合 元件
【权利要求书】:

1.一种辐射敏感性组合物,包含:

a.碱可溶性聚合物粘结剂,和

b.辐射吸收性化合物,

所述碱可溶性聚合物粘结剂是聚(乙烯醇缩醛),其包含由以下 结构(Ia)表示的重复单元:

由以下结构(Ib)表示的重复单元:

由以下结构(Id)和(Ie)之一或两者表示的重复单元:

R和R′独立地是氢或甲基、乙基、正丙基、正丁基、正戊基、正 己基、氯代甲基、三氯代甲基、异丙基、异丁基、叔丁基、异戊基、 新戊基、1-甲基丁基和异己基、环丙基、环丁基、环戊基、甲基环己 基和环己基,或卤基,

R1是未取代的苯酚基、选自至多三个如下基团取代的苯酚基:羟 基、甲氧基、烷氧基、芳氧基、硫代芳氧基、卤甲基、三卤甲基、卤 基、硝基、偶氮、硫代羟基、硫代烷氧基、氰基、氨基、羧基、乙烯 基、羧基烷基、苯基、烷基、烯基、炔基、环烷基、芳基、杂芳基和 杂脂环族基;未取代的萘酚基、选自至多三个如下基团取代的萘酚基: 羟基、甲氧基、烷氧基、芳氧基、硫代芳氧基、卤甲基、三卤甲基、 卤基、硝基、偶氮、硫代羟基、硫代烷氧基、氰基、氨基、羧基、乙 烯基、羧基烷基、苯基、烷基、烯基、炔基、环烷基、芳基、杂芳基 和杂脂环族基;未取代的蒽酚基、或选自至多三个如下基团取代的蒽 酚基:羟基、甲氧基、烷氧基、芳氧基、硫代芳氧基、卤甲基、三卤 甲基、卤基、硝基、偶氮、硫代羟基、硫代烷氧基、氰基、氨基、羧 基、乙烯基、羧基烷基、苯基、烷基、烯基、炔基、环烷基、芳基、 杂芳基和杂脂环族基,

R2是未取代的萘酚基或选自至多三个如下基团取代的萘酚基:羟 基、甲氧基、烷氧基、芳氧基、硫代芳氧基、卤甲基、三卤甲基、卤 基、硝基、偶氮、硫代羟基、硫代烷氧基、氰基、氨基、羧基、乙烯 基、羧基烷基、苯基、烷基、烯基、炔基、环烷基、芳基、杂芳基和 杂脂环族基,但是不同于R1

R7是以下基团:

其中X是直接单键或-O-CH2-基,

结构(Ia)重复单元以至少20mol%的量存在,结构(Ib)重复单 元以至少10mol%的量存在,和结构(Id)和(Ie)重复单元之一或两 者以2-25mol%的量存在,以及

所述辐射敏感性组合物还包含显影性增强组合物。

2.权利要求1的组合物,其中结构(Ia)重复单元以至少30mol% 的量存在,结构(Ib)重复单元以至少20mol%的量存在,结构(Ia) 重复单元和结构(Ib)重复单元之和小于或等于75mol%。

3.权利要求1的组合物,其中所述碱可溶性聚合物粘结剂还包含 由以下结构(Ic)、(If)和(Ig)中的一种或多种表示的重复单元:

其中R和R′如上面所限定,R3是未取代的炔基、未取代的苯基或 选自如下基团取代的苯基:羧基、羧基亚烷基氧基或羧基烷基基团, R4是-O-C(=O)-R5基,其中R5是含1-12个碳原子的未取代的烷基、 未取代的苯基、二甲苯基、甲苯基、对甲氧基苯基、3-氯苯基和萘基, R6是羟基。

4.权利要求3的组合物,其中由结构(Ic)、(If)和(Ig)表示 的重复单元按以下量存在于所述聚合物粘结剂中:

2-10mol%由结构(Ic)表示的重复单元,

1-15mol%由结构(If)表示的重复单元,和

15-30mol%由结构(Ig)表示的重复单元。

5.权利要求1的组合物,其中R和R′独立地是氢或甲基,R1是未取 代的苯酚基或未取代的萘酚基。

6.权利要求1的组合物,其中所述辐射吸收性化合物是红外辐射 吸收性化合物。

7.权利要求1的组合物,其中所述聚(乙烯醇缩醛)占总组合物 固体的10-95重量%。

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