[发明专利]具有与机械及电功能分离的光学功能的微机电装置无效

专利信息
申请号: 200880023131.4 申请日: 2008-06-24
公开(公告)号: CN101855586A 公开(公告)日: 2010-10-06
发明(设计)人: 克拉伦斯·徐;威廉·卡明斯;布莱恩·J·加利;利奥尔·科格特;董明皓;董叶俊;姜志伟;丹尼斯·恩迪施 申请(专利权)人: 高通MEMS科技公司
主分类号: G02B26/00 分类号: G02B26/00;B81B3/00;B81C1/00
代理公司: 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 代理人: 刘国伟
地址: 美国加利*** 国省代码: 美国;US
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 具有 机械 功能 分离 光学 微机 装置
【权利要求书】:

1.一种微机电(MEMS)装置,其包括:

衬底;

所述衬底上的可移动元件,所述可移动元件包括可变形层及反射元件,所述可变形层与所述反射元件间隔开;以及

所述可移动元件上的激活电极。

2.根据权利要求1所述的MEMS装置,其进一步包括光学层,其中入射于所述反射元件上的光被从所述反射元件反射,所述入射光及所述反射光传播穿过所述光学层且不传播穿过所述激活电极。

3.根据权利要求2所述的MEMS装置,其中所述衬底包括所述光学层。

4.根据权利要求1所述的MEMS装置,其中当无电压被施加到所述激活电极时,所述衬底的顶表面与所述反射元件间隔开。

5.根据权利要求1所述的MEMS装置,其中当无电压被施加到所述激活电极时,所述衬底的顶表面与所述反射元件接触。

6.根据权利要求1所述的MEMS装置,其进一步包括所述可变形层与所述反射元件之间的第二激活电极。

7.根据权利要求6所述的MEMS装置,其中所述可移动元件通过大体上在第一方向上移动来对施加到所述可移动元件上的所述激活电极的电压作出响应,且其中所述可移动元件通过大体上在第二方向上移动来对施加到所述第二激活电极的电压作出响应,所述第二方向大体上与所述第一方向相反。

8.根据权利要求1所述的MEMS装置,其中所述衬底包括第二激活电极。

9.根据权利要求1所述的MEMS装置,其中固定元件充当针对所述可移动元件的移动的挡止件,所述固定元件位于所述可变形层与所述反射元件之间。

10.根据权利要求1所述的MEMS装置,其进一步包括:

显示器;

处理器,其经配置以与所述显示器通信,所述处理器经配置以处理图像数据;以及

存储器装置,其经配置以与所述处理器通信。

11.根据权利要求10所述的MEMS装置,其进一步包括经配置以将至少一个信号发送到所述显示器的驱动器电路。

12.根据权利要求11所述的MEMS装置,其进一步包括经配置以将所述图像数据的至少一部分发送到所述驱动器电路的控制器。

13.根据权利要求10所述的MEMS装置,其进一步包括经配置以将所述图像数据发送到所述处理器的图像源模块。

14.根据权利要求13所述的MEMS装置,其中所述图像源模块包括接收器、收发器及发射器中的至少一者。

15.根据权利要求10所述的MEMS装置,其进一步包括经配置以接收输入数据并将所述输入数据传送到所述处理器的输入装置。

16.一种微机电(MEMS)装置,其包括:

用于移动所述装置的一部分的装置,所述移动装置包括用于变形的装置及用于反射的装置,所述变形装置与所述反射装置间隔开;

用于支撑移动装置的装置;以及

用于激活所述移动装置的装置,所述激活装置位于所述移动装置上。

17.根据权利要求16所述的MEMS装置,其中所述支撑装置包括衬底。

18.根据权利要求16所述的MEMS装置,其中所述移动装置包括可移动元件。

19.根据权利要求16所述的MEMS装置,其中所述变形装置包括可变形层。

20.根据权利要求16所述的MEMS装置,其中所述反射装置包括反射元件。

21.根据权利要求16所述的MEMS装置,其中所述激活装置包括激活电极。

22.一种制造微机电(MEMS)装置的方法,所述方法包括:

在衬底上形成第一牺牲层;

在所述第一牺牲层上形成反射元件;

在所述反射元件上形成第二牺牲层;

在所述第二牺牲层上形成可变形层,所述可变形层以机械方式耦合到所述反射元件;

在所述可变形层上形成第三牺牲层;

在所述第三牺牲层上形成激活电极;以及

移除所述第一、第二及第三牺牲层。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于高通MEMS科技公司,未经高通MEMS科技公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200880023131.4/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top