[发明专利]金属离子在导电基材表面上的沉积无效

专利信息
申请号: 200880023345.1 申请日: 2008-06-03
公开(公告)号: CN101730756A 公开(公告)日: 2010-06-09
发明(设计)人: 弗兰克·G·德法尔科 申请(专利权)人: DFHS有限责任公司
主分类号: C23C22/00 分类号: C23C22/00;C23C22/05;C23C22/08
代理公司: 北京安信方达知识产权代理有限公司 11262 代理人: 杨淑媛;郑霞
地址: 美国阿*** 国省代码: 美国;US
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摘要:
搜索关键词: 金属 离子 导电 基材 表面上 沉积
【权利要求书】:

1.一种用于产生沉积到表面上的非碱金属的含水溶液的工艺,其包括下述步骤:

1)形成水与正磷酸的溶液;

2)向步骤1的所述溶液中添加氢氧化铵;

3)向步骤1和步骤2产生的所述溶液中添加水中的碱金属氢氧化物;以及

4)向步骤1、步骤2和步骤3产生的所述溶液中添加非碱金属盐。

2.如权利要求1所述的工艺,其中,步骤1还包括形成0.5份到1.5份水与0.5份到1.5份正磷酸的溶液,其中,所述正磷酸是75%到85%;步骤2还包括向步骤1的所述溶液中添加0.5份到1.5份氢氧化铵,其中,所述氢氧化铵是20%到30%;步骤3还包括向步骤1和步骤2产生的所述溶液中添加0.5份到1.5份水中的碱金属氢氧化物,其中,所述水中的碱金属氢氧化物是40%到60%;以及步骤4还包括向每80ml到100ml的步骤1、步骤2和步骤3产生的所述溶液中添加0.1克到10克的非碱金属盐。

3.如权利要求1所述的工艺,其中,所述非碱金属盐是铜、银、金、铍、镁、锌、镉、铝、镓、铟、硅、锡、铅、钛、锆、铪、锑、铋;钒、铌、钽、硒、碲、铬、钼、钨、锰、铁、钴、镍、钯或铑、或其组合的盐。

4.如权利要求1所述的工艺,其中,所述碱金属氢氧化物是氢氧化钠、氢氧化钾或氢氧化锂、或其组合。

5.一种用于产生沉积到表面上的非碱金属的含水溶液的工艺,其包括下述步骤:

1)形成0.5份到1.5份水与0.5份到1.5份正磷酸的溶液,其中,所述正磷酸是75%到85%;

2)向步骤1的所述溶液中添加0.5份到1.5份氢氧化铵,其中,所述氢氧化铵是20%到30%;

3)向步骤1和步骤2产生的所述溶液中添加0.5份到1.5份水中的碱金属氢氧化物,其中,所述水中的碱金属氢氧化物是40%到60%;以及

4)向每80ml到100ml的步骤1、步骤2和步骤3产生的所述溶液中添加0.1克到10克的非碱金属盐。

6.如权利要求5所述的工艺,其中,所述非碱金属盐是铜、银、金、铍、镁、锌、镉、铝、镓、铟、硅、锡、铅、钛、锆、铪、锑、铋;钒、铌、钽、硒、碲、铬、钼、钨、锰、铁、钴、镍、钯或铑、或其组合的盐。

7.如权利要求6所述的工艺,其中,所述碱金属氢氧化物是氢氧化钠、氢氧化钾或氢氧化锂、或其组合。

8.一种用于产生沉积到表面上的非碱金属的含水溶液的工艺,其包括下述步骤:

1)形成水与硫酸的溶液;

2)向步骤1的所述溶液中添加氢氧化铵;

3)向步骤1和步骤2产生的所述溶液中添加水中的碱金属氢氧化物;以及

4)向步骤1、步骤2和步骤3产生的所述溶液中添加非碱金属盐。

9.如权利要求8所述的工艺,其中,步骤1还包括形成0.5份到1.5份水与0.5份到1.5份浓硫酸的溶液;步骤2还包括向步骤1的所述溶液中添加0.5份到1.5份氢氧化铵,其中,所述氢氧化铵是20%到30%;步骤3还包括向步骤1和步骤2产生的所述溶液中添加0.5份到1.5份水中的碱金属氢氧化物,其中,所述水中的碱金属氢氧化物是40%到60%;以及步骤4还包括向每80ml到100ml的步骤1、步骤2和步骤3产生的所述溶液中添加0.1克到10克的非碱金属盐。

10.如权利要求8所述的工艺,其中,所述非碱金属盐是铜、银、金、铍、镁、锌、镉、铝、镓、铟、硅、锡、铅、钛、锆、铪、锑、铋;钒、铌、钽、硒、碲、铬、钼、钨、锰、铁、钴、镍、钯或铑、或其组合的盐。

11.如权利要求8所述的工艺,其中,所述碱金属氢氧化物是氢氧化钠、氢氧化钾或氢氧化锂、或其组合。

12.一种用于产生沉积到表面上的非碱金属的含水溶液的工艺,其包括下述步骤:

1)形成0.5份到1.5份水与0.5份到1.5份浓硫酸的溶液;

2)向步骤1的所述溶液中添加0.5份到1.5份氢氧化铵,其中,所述氢氧化铵是20%到30%;

3)向步骤1和步骤2产生的所述溶液中添加0.5份到1.5份水中的碱金属氢氧化物,其中,所述水中的碱金属氢氧化物是40%到60%;以及

4)向每80ml到100ml的步骤1、步骤2和步骤3产生的所述溶液中添加0.1克到10克的非碱金属盐。

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