[发明专利]大型表膜构件的框体及该框体的把持方法

说明书

技术领域

本发明涉及作为表膜构件(pellicle)的构成构件的框体， 该表膜构件用于防止在制造构成LSI、液晶显示器(LCD)的 薄膜晶体管(TFT)、滤色片(CF)等时的光刻工序中使用的 光掩模、中间掩模(reticle)中附着异物。特别是涉及作为液 晶用大型表膜构件的构成构件、即作为长边长度为1m以上的大 型表膜构件的构成构件的框体。

背景技术

本发明是涉及作为表膜构件的构成构件的框体的技术，首 先说明表膜构件。

以往，在半导体装置的制造中，在晶圆上形成电路图案的 光刻工序中，通常使用被称作表膜构件的防尘部件来防止异物 附着于光掩模、中间掩模。表膜构件是在形状与光掩模或者中 间掩模的形状相符的、厚度为几毫米左右的框体的上缘面铺展 并粘接厚度为10μm以下的硝酸纤维素、纤维素衍生物 (cellulose derivative)或者氟类聚合物等透明的高分子膜(以 下称作“表膜”)而成的。通常，表膜构件大多以在该框体的下 缘面涂敷粘合材料、并在该粘合材料层上层叠保护膜而成的产 品状态出货。

上述粘合材料层用于将表膜构件粘着于光掩模或者中间掩 模，而且，上述保护膜为了在该粘合材料层被用于上述用途前 维持粘合材料的粘接力而保护该粘合材料层的粘接面。

该表膜构件通常由表膜构件制造者提供给制造光掩模或者 中间掩模的制造者(以下称作“掩模制造者”)。掩模制造者自 表膜构件剥离上述保护膜，利用粘合材料层将表膜构件粘贴于 光掩模或者中间掩模之后，将该掩模或者中间掩模提供给进行 光刻的制造者、例如半导体装置制造者或者液晶面板制造者。

在表膜构件用作防尘部件的特性方面，该表膜构件的处理 需要处理为不附着尘埃。通常，在处理表膜构件时，通常通过 向形成在框体外侧面的孔中插入销状工具来把持，通过把持工 具主体而使人手不会直接接触表膜构件(例如参照专利文献 1)。另外，也提出了通过在框体的外侧面形成用于供旋转杆插 入的槽而使用具有旋转杆的工具来把持，通过把持该工具的主 体而使人手不会直接接触表膜构件(例如参照专利文献2)。

另外，在将表膜构件从表膜构件制造者搬运到掩模制造者 时，为了不附着灰尘，通常将表膜构件放入到具有密封性的容 纳容器中来进行搬运。当然，由于要求表膜构件被可靠地固定 在容纳容器内，因此，也提出了通过向形成在框体外侧面的孔 中插入销状功具而将表膜构件固定于容纳容器内的方法(例如 参照专利文献3)。

另外，也提出了通过由构成容纳容器的托盘和盖夹着形成 在框体外侧面上的水平突出部而将表膜构件固定于容纳容器的 方法(例如参照专利文献4或5)。

并且，不仅注目于形成在框体外侧面上的突出部、槽或者 孔对表膜构件的把持、固定功能，还对表膜构件的框体形状也 进行了各种研究。例如，为了确保表膜构件内部与外部的透气 性，提出了设置从框体外侧面贯穿到内侧面带有过滤器的孔(例 如参照专利文献6)。

另外，为了控制从光掩膜的图案面到表膜的距离(基准距) (例如参照专利文献7～9)、控制掩膜粘合材料的伸出(例如 参照专利文献10或11)、形成掩模粘合材料的台阶(例如参照 专利文献12)、确保粘贴于光掩模时的加压区域(例如参照专 利文献13)，提出了在框体的上缘面或下缘面设槽、突起、台 阶的各种形状。

近年来，随着LCD的大型化，光掩模及其使用的表膜构件 也大型化，最长边的长度大于1m的表膜构件面世了。一般认为， 今后，为了应对LCD的大型化、提高生产效率，光掩模的大型 化也是必不可少的。

在大型光掩模的情况下，原料大多是合成石英基板，材料 费非常昂贵。因此，相对于设定的有效曝光区域尺寸，光掩模 尺寸通常设计得极小。

在是粘贴于大型光掩模上的大型表膜构件的情况下，鉴于 光掩模尺寸的制约，对于被粘贴在从有效曝光区域到光掩模的 外周端之间的表模的框体宽度也存在制约，即使表膜构件大型 化，框体的宽度实际上也无法增大。

并且，由于从光掩模的图案面到表膜的距离(基准距)受 到曝光机的光学系统制约，因此，对于框体的高度也存在制约， 即使表膜构件大型化，框体的高度实际上也无法增大。