[发明专利]具有成形轮廓的保持环

权利要求书

1.一种用于化学机械抛光的保持环，其包括：

环状环，其具有底表面以用于在抛光期间接触抛光垫，其中所述底表 面具有多个通道，每一个所述通道由多个侧壁所界定，位于至少一个所述 侧壁与所述底表面之间的至少一个拐角具有第一弯曲半径，并且位于所述 环状环的外径与所述底表面之间的拐角具有第二弯曲半径，其中至少一个 所述通道在毗邻所述保持环的内径处的宽度小于在毗邻所述保持环的外径 处的宽度，至少一所述通道具有第三弯曲半径，所述第三弯曲半径界定所 述通道的一部分，所述通道的一部分为向外呈喇叭状到毗邻所述外径处的 宽度，所述底表面上毗邻所述内径与所述通道的拐角是圆滑的并且具有第 四弯曲半径，所述第四弯曲半径小于所述第三弯曲半径。

2.如权利要求1所述的保持环，其中所述第一弯曲半径等于所述第二 弯曲半径。

3.如权利要求1所述的保持环，其中所述第一弯曲半径为至少120密 尔。

4.如权利要求1所述的保持环，其中所述通道的基部为U形。

5.如权利要求1所述的保持环，其中所述通道在一端比较深。

6.一种使用权利要求1所述的保持环的方法，其包括：

用权利要求1中所述的保持环来保持衬底；

将抛光液施加至固定磨蚀粒的抛光垫；以及

在所述衬底与所述固定磨蚀粒的抛光垫之间产生相对运动。

7.一种制造权利要求1所述的保持环的方法，其包括：

在所述环状环的底表面中形成多个通道，其中每一个所述通道由多个 侧壁界定，位于所述侧壁与所述底表面之间的拐角具有第一弯曲半径，并 且位于所述环状环的外径与所述底表面之间的拐角具有第二弯曲半径，其 中至少一个所述通道在毗邻所述保持环的内径处的宽度小于在毗邻所述保 持环的外径处的宽度。

8.一种用于化学机械抛光的系统，其包括：

承载头；

保持环，其接附到所述承载头，其中所述保持环包括环状环，所述环 状环具有底表面以用于在抛光期间接触抛光垫，其中所述底表面具有多个 通道，每一个所述通道由多个侧壁界定，位于至少一个侧壁与所述底表面 之间的至少一个拐角具有第一弯曲半径，并且位于所述环状环的外径与所 述底表面之间的拐角具有第二弯曲半径，其中至少一个所述通道在毗邻所 述保持环的内径处的宽度小于在毗邻所述保持环的外径处的宽度，至少一 所述通道具有第三弯曲半径，所述第三弯曲半径界定所述通道的一部分， 所述通道的一部分为向外呈喇叭状到毗邻所述外径处的宽度，所述底表面 上毗邻所述内径与所述通道的拐角是圆滑的并且具有第四弯曲半径，所述 第四弯曲半径小于所述第三弯曲半径；以及

压板，其用以在抛光期间支撑所述抛光垫与所述保持环。