[发明专利]可透膜的截留率提高方法、提高截留率的可透膜、可透膜处理方法以及装置

权利要求书

1.可透膜的截留率提高方法，其特征在于，使截留率提高剂和修饰剂与可透膜接触，从而提高可透膜的截留率，其中，所述截留率提高剂包含不具有碳原子数8以上的疏水性基团的亲水性高分子，所述修饰剂包含具有碳原子数8以上的疏水性基团的水溶性高分子。

2.可透膜的截留率提高方法，其特征在于，使混合处理剂与可透膜接触，从而提高可透膜的截留率，所述混合处理剂含有截留率提高剂和修饰剂，且截留率提高剂的浓度为修饰剂浓度的2倍以上，其中，所述截留率提高剂包含不具有碳原子数8以上的疏水性基团的亲水性高分子，所述修饰剂包含具有碳原子数8以上的疏水性基团的水溶性高分子。

3.可透膜的截留率提高方法，其特征在于，进行使截留率提高剂与可透膜接触的截留率提高剂处理，然后进行使修饰剂与可透膜接触的修饰剂处理，从而提高可透膜的截留率，其中，所述截留率提高剂包含不具有碳原子数8以上的疏水性基团的亲水性高分子，所述修饰剂包含具有碳原子数8以上的疏水性基团的水溶性高分子。

4.权利要求1～3中任一项所述的方法，其中，截留率提高剂是具有聚亚烷基二醇链的化合物。

5.权利要求1～4中任一项所述的方法，其中，修饰剂具有包含碳原子数8～20的烷基或亚烷基的疏水性基团。

6.权利要求1～5中任一项所述的方法，其中，修饰剂是具有亲水基团和疏水性基团的表面活性物质。

7.由权利要求1～6中任一项所述的方法得到的可透膜。

8.可透膜处理方法，该方法包括：使被处理液渗透由权利要求1～6中任一项所述的方法得到的可透膜来进行可透膜处理。

9.可透膜处理装置，其具有由权利要求1～6中任一项所述的方法得到的可透膜，并具有使被处理液渗透可透膜来进行可透膜处理的单元。

10.可透膜装置，其包含：可透膜模件、截留率提高剂处理装置和修饰剂处理装置，其中

在所述可透膜模件的初级侧通入被处理液，并由次级侧取出渗透液；

在所述截留率提高剂处理装置中，将截留率提高剂通入到模件的初级侧，并使其与可透膜接触，所述截留率提高剂包含不具有碳原子数8以上的疏水性基团的亲水性高分子；

在所述修饰剂处理装置中，将修饰剂通入到模件的初级侧，并使其与可透膜接触，所述修饰剂包含具有碳原子数8以上的疏水性基团的水溶性高分子。

11.可透膜的截留率提高处理剂，该处理剂与可透膜接触来进行可透膜的截留率提高处理，其特征在于，包含截留率提高剂和修饰剂，所述截留率提高剂包含不具有碳原子数8以上的疏水性基团的亲水性高分子，所述修饰剂包含具有碳原子数8以上的疏水性基团的水溶性高分子。

12.权利要求11所述的截留率提高处理剂，其是含有截留率提高剂和修饰剂、且截留率提高剂的浓度为修饰剂浓度的2倍以上的混合处理剂，其中，所述截留率提高剂包含不具有碳原子数8以上的疏水性基团的亲水性高分子，所述修饰剂包含具有碳原子数8以上的疏水性基团的水溶性高分子。

13.权利要求11或12所述的截留率提高处理剂，其中，截留率提高剂是具有聚亚烷基二醇链的化合物。

14.权利要求11～13中任一项所述的截留率提高处理剂，其中，修饰剂具有包含碳原子数8～20的烷基或亚烷基的疏水性基团。

15.权利要求11～14中任一项所述的截留率提高处理剂，其中，修饰剂是具有亲水基团和疏水性基团的表面活性物质。