[发明专利]等离子体反应器有效

专利信息
申请号: 200880025328.1 申请日: 2008-07-14
公开(公告)号: CN101755322A 公开(公告)日: 2010-06-23
发明(设计)人: G·P·奈特;A·钱伯斯 申请(专利权)人: 爱德华兹有限公司
主分类号: H01J37/32 分类号: H01J37/32;H05H1/24
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 庞立志;韦欣华
地址: 英国西萨*** 国省代码: 英国;GB
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摘要:
搜索关键词: 等离子体 反应器
【权利要求书】:

1.一种等离子体消除反应器,包括:

反应室;

入口头,其具有连接到反应室的开口端,位于与开口端相对的等 离子体入口,从开口端向等离子体入口逐渐变小的内表面,和各自位 于等离子体入口和开口端之间的第一和第二气体入口,用于向反应室 等离子体中提供气体;和

用于将等离子体物流注入反应室的等离子炬;

其中等离子体入口被成形为使得等离子体物流朝着气体入口向 外散布;

其中反应室包括环形主体和向环形主体的内表面提供气体的装 置以便抑制沉积物在其上的堆积,其中环形主体包括多孔环形构件, 并且气体提供装置包括用于接收所述气体的在环形构件周围延伸的 充气室。

2.根据权利要求1的等离子体消除反应器,包括用于加热提 供给环形主体的内表面的气体的装置。

3.根据权利要求1的等离子体消除反应器,其中气体包括用 于与进入反应器的气体物流的组分反应的反应物。

4.根据权利要求1的等离子体消除反应器,其中反应室包括 位于第一次提及的环形主体和等离子体入口之间的第二环形主体,和 第二气体提供装置,用于将不同于提供给第一次提及的环形主体的气 体的第二气体提供给第二环形主体的内表面以便抑制沉积物在其上 的堆积。

5.根据权利要求4的等离子体消除反应器,其中第二环形主 体包括多孔环形构件,并且第二气体提供装置包括用于接收所述第二 气体的在这个环形构件周围延伸的充气室。

6.根据权利要求4的等离子体消除反应器,包括用于加热第 二气体的装置。

7.根据权利要求4的等离子体消除反应器,其中第二气体包 括用于与进入反应器的气体物流的组分反应的反应物。

8.根据权利要求1的等离子体消除反应器,包括在反应室以 下并且与反应室流体连通的冷却塔,和用于保持沿冷却塔的内表面的 水流量的装置。

9.根据权利要求1的等离子体消除反应器,还包括气体管道 以便在通过所述等离子体处理前,将反应物气体引入到待处理的气 体。

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