[发明专利]用于干扰测量法的生成模型信号

权利要求书

1.一种干涉测量方法，包括：

在一定照明角度的范围内将测试光指向第一校准表面，并且将从第一校 准表面射回的测试光与参考光结合以形成干涉图案，其中，来自第一校准表 面的测试光与参考光源自共同光源；

将来自第一校准表面的结合光的至少一部分指向多组件检测器，使得检 测器的不同组件通过测试光对应于第一校准表面的不同照明角度；

在一定照明角度的范围内将测试光指向不同于第一校准表面的第二校准 表面，并且将从第二校准表面射回的测试光与参考光结合以形成干涉图案， 其中，来自第二校准表面的测试光与参考光源自共同光源；

将来自第二校准表面的结合光的至少一部分指向多组件检测器，使得检 测器的不同组件通过测试光对应于第二校准表面的不同照明角度；以及

基于对从第一和第二校准表面出射的测试光、由检测器的不同组件测量 的干涉信号和有关第一和第二校准表面的信息来确定有关干涉测量系统的信 息，

其中：

有关干涉测量系统的信息包括与下列至少其中一个相对应的信息：共同 光源的频谱分布、与平行于入射面的偏振状态相比的垂直于入射面的偏振状 态的相对衰减、穿过干涉测量系统的光瞳面的照明的频谱分布的变化、穿过 干涉测量系统的光瞳面的照明的平均强度的变化、穿过干涉测量系统的光瞳 面的照明的相位的变化、以及穿过干涉测量系统的光瞳面的照明的频谱强度 的变化，并且

所述有关第一和第二校准表面的信息包括有关第一和第二校准表面的反 射率的信息。

2.如权利要求1所述的方法，其中，第一校准表面包括：体硅、硅上氧 化层、基板上介电层、基板上不透明金属层、金属的固体表面、介电材料的 固体表面。

3.如权利要求1所述的方法，还包括：

将有关干涉测量系统的信息与来自干涉测量系统的标准校准进行比较； 以及

基于所述比较修改干涉测量系统。

4.如权利要求1所述的方法，还包括：

将有关干涉测量系统的信息与有关第二干涉测量系统的信息进行比较； 以及

基于所述比较修改干涉测量系统之一或两者。

5.如权利要求1所述的方法，还包括：基于有关干涉仪的信息和有关测 试物体的多个模型的信息，产生多个模型扫瞄干涉信号，其中，所述测试物 体的多个模型由测试物体的一系列特征参数化。

6.如权利要求5所述的方法，还包括：将对于在测试物体上的第一表面 位置的、可从干涉测量系统取得的扫瞄干涉信号中得出的信息与可从多个模 型扫瞄干涉信号中得出的信息进行比较。

7.如权利要求6所述的方法，还包括：基于所述比较确定测试物体的准 确特征。

8.如权利要求7所述的方法，其中，所述准确特征是第一表面位置的表 面高度和/或第一表面位置的薄膜厚度。

9.如权利要求7所述的方法，其中，确定准确特征包括基于所述比较确 定测试物体的哪个模型对应于测试物体的特征中准确的一个，并且使用对应 于准确特征的测试物体的模型来计算有关测试物体的信息。

10.如权利要求6所述的方法，还包括：将对于额外表面位置、可从扫 瞄干涉信号中得出的信息与从多个模型扫瞄干涉信号中得出的信息进行比 较。

11.如权利要求6所述的方法，其中，所述比较包括使用搜寻引擎来比 较可从干涉测量系统取得的扫瞄干涉信号中得出的信息与可从多个模型扫瞄 干涉信号中得出的信息。

12.如权利要求6所述的方法，其中，所述比较包括计算一个或多个评 价函数，所述评价函数表示在可从扫瞄干涉信号中得出的信息和对应于每一 个模型的信息之间的相似度。

13.如权利要求1所述的方法，还包括：

使用干涉测量系统以干涉地描绘测试表面形貌的轮廓的操作模式，测量 测试物体的测试表面；以及

基于有关干涉测量系统的信息提供校正的轮廓。