[发明专利]电子照相感光构件、处理盒及电子照相设备有效
申请号: | 200880100209.8 | 申请日: | 2008-07-24 |
公开(公告)号: | CN101765812A | 公开(公告)日: | 2010-06-30 |
发明(设计)人: | 田边干;齐藤善久;小川英纪;雨宫昇司;池末龙哉;满居隆浩;大城真弓;滝泽久美子 | 申请(专利权)人: | 佳能株式会社 |
主分类号: | G03G5/147 | 分类号: | G03G5/147;G03G5/00;G03G5/043;G03G5/047;G03G9/08;G03G21/00 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所 11277 | 代理人: | 刘新宇;李茂家 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 电子 照相 感光 构件 处理 设备 | ||
1.一种圆筒形电子照相感光构件,其包括支承体和形成在 所述支承体上的感光层,其中
所述圆筒形电子照相感光构件表面层的两端部具有这样的 区域,在该区域中,彼此独立的凹陷部以每100微米见方的方形 中为10个以上的密度形成;
将短轴径Lpc定义为通过水平投影各凹陷部的表面开口部 得到的直线中最短直线的长度;
将长轴径Rpc定义为通过沿短轴径Lpc的长度方向投影各 凹陷部的表面开口部得到的直线的长度;
当表示各所述凹陷部的最深部与开口之间距离的平均深度 由Rdv-A表示,所述凹陷部的平均短轴径由Lpc-A表示,以及所 述凹陷部的平均长轴径由Rpc-A表示时,所述平均深度Rdv-A落 入0.3μm以上至4.0μm以下的范围内,所述平均短轴径Lpc-A落 入2.0μm以上至10.0μm以下的范围内,以及所述平均长轴径 Rpc-A为所述平均短轴径Lpc-A的两倍以上至50μm以下;和
当在所述电子照相感光构件的周向与各所述凹陷部的长轴 之间形成的角由θ表示时,在所述电子照相感光构件的两端部形 成所述凹陷部,以致从沿电子照相感光构件周向的旋转移动方 向设置为沿θ=0°的方向,朝向所述电子照相感光构件的中央, 所述角θ满足关系90°<θ<180°。
2.根据权利要求1所述的圆筒形电子照相感光构件,其中 所述角θ满足关系100°≤θ≤170°。
3.根据权利要求1所述的圆筒形电子照相感光构件,其中 配置所述凹陷部,以致在形成所述凹陷部的各区域中,在从任 意凹陷部长轴方向的端部沿电子照相感光构件的周向画出的线 上存在另一凹陷部。
4.一种处理盒,其一体化支承根据权利要求1所述的圆筒 形电子照相感光构件和选自由充电单元、显影单元和清洁单元 组成的组的至少一种单元,并且可拆卸地安装于电子照相设备 主体上,所述清洁单元用于通过使弹性构件与所述电子照相感 光构件接触来去除转印残余调色剂,
其中所述角θ是在所述电子照相感光构件的旋转移动方向 与各所述凹陷部的长轴之间形成的角。
5.一种电子照相设备,其包括根据权利要求1所述的圆筒 形电子照相感光构件、充电单元、显影单元、转印单元以及清 洁单元,所述清洁单元用于通过使弹性构件与所述电子照相感 光构件接触来去除转印残余调色剂,
其中所述角θ是在所述电子照相感光构件的旋转移动方向 与各所述凹陷部的长轴之间形成的角。
6.根据权利要求5所述的电子照相设备,其中配置形成所 述凹陷部的区域以存在于形成调色剂图像的最大区域的外侧。
7.根据权利要求5所述的电子照相设备,其特征在于,用 于所述显影单元的调色剂具有重均粒径5.0μm以上。
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