[发明专利]显示装置和显示装置的制造方法无效
申请号: | 200880100341.9 | 申请日: | 2008-05-20 |
公开(公告)号: | CN101765869A | 公开(公告)日: | 2010-06-30 |
发明(设计)人: | 冈部达 | 申请(专利权)人: | 夏普株式会社 |
主分类号: | G09F9/30 | 分类号: | G09F9/30;G02F1/1333;H01L51/50;H05B33/02;H05B33/12;H05B33/22 |
代理公司: | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人: | 龙淳 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 显示装置 制造 方法 | ||
1.一种显示装置,其在树脂基板上依次具备有机绝缘膜、无机导电膜和显示元件,其特征在于:
该显示装置具有与无机导电膜并列配置的无机绝缘膜,
该无机绝缘膜与无机导电膜一起覆盖有机绝缘膜的整个表面。
2.如权利要求1所述的显示装置,其特征在于:
所述显示装置在树脂基板与有机绝缘膜之间具有覆盖树脂基板整体的无机底涂膜。
3.如权利要求2所述的显示装置,其特征在于:
所述无机底涂膜配置在树脂基板的两侧。
4.如权利要求1至3中任一项所述的显示装置,其特征在于:
所述显示装置在树脂基板上具备栅极信号线、数据信号线和薄膜晶体管,
所述无机导电膜构成配置在由栅极信号线和数据信号线包围的区域的像素电极。
5.如权利要求1至4中任一项所述的显示装置,其特征在于:
所述有机绝缘膜构成彩色滤光片。
6.如权利要求1至4中任一项所述的显示装置,其特征在于:
所述有机绝缘膜构成黑矩阵。
7.如权利要求1至6中任一项所述的显示装置,其特征在于:
所述有机绝缘膜的厚度在10μm以下。
8.如权利要求1至7中任一项所述的显示装置,其特征在于:
所述显示元件是液晶层。
9.如权利要求1至7中任一项所述的显示装置,其特征在于:
所述显示元件是电致发光层。
10.一种显示装置的制造方法,制造权利要求1至9中任一项所述的显示装置,该制造方法的特征在于:
该制造方法包括利用化学蒸镀形成无机绝缘膜的工序。
11.一种显示装置的制造方法,制造权利要求2至9中任一项所述的显示装置,该制造方法的特征在于:
该制造方法包括利用化学蒸镀形成无机底涂膜的工序。
12.一种显示装置的制造方法,制造权利要求1至9中任一项所述的显示装置,该制造方法的特征在于:
该制造方法包括以等级1水平的洁净度形成有机绝缘膜的工序。
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