[发明专利]制造薄膜Ⅲ-Ⅴ族化合物太阳能电池的方法无效

专利信息
申请号: 200880101271.9 申请日: 2008-07-03
公开(公告)号: CN101790794A 公开(公告)日: 2010-07-28
发明(设计)人: N·潘;G·希勒;D·P·沃;R·塔塔瓦蒂;C·由特希;D·麦卡鲁姆;G·玛丁 申请(专利权)人: 微连器件公司
主分类号: H01L31/042 分类号: H01L31/042
代理公司: 北京市金杜律师事务所 11256 代理人: 陈文平;徐志明
地址: 美国伊*** 国省代码: 美国;US
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摘要:
搜索关键词: 制造 薄膜 化合物 太阳能电池 方法
【权利要求书】:

1.一种制造薄膜III-V族化合物太阳能电池的方法,该方法包括以下步骤:

提供基底;

在基底上形成牺牲层;

在牺牲层上形成活性层;

在活性层上形成背衬层;和

从活性层和基底之间除去牺牲层,以便薄膜III-V族化合物太阳能电池与基底分离。

2.如权利要求1所述的方法,其中,所述薄膜III-V族化合物太阳能电池是柔性的。

3.如权利要求1所述的方法,其中,所述基底由III-V族化合物形成。

4.如权利要求1所述的方法,其中,所述基底之前用于另一薄膜III-V族化合物太阳能电池的制造。

5.如权利要求3所述的方法,其中,所述基底由砷化镓(GaAs)和磷化铟(InP)中的至少一种形成。

6.如权利要求1所述的方法,其中,所述牺牲层由砷化铝镓(AlxGa1-xAs)、砷化铟铝(InxAl1-xAs)、磷锑化铝(AlPxSb1-x)和砷锑化铝(AlAsxSb1-x)中的至少一种形成。

7.如权利要求1所述的方法,其中,所述活性层由III-V族化合物形成。

8.如权利要求7所述的方法,其中,所述III-V族化合物是砷化镓(GaAs)、磷化铟镓(Ga1-xInxP)、砷化铟镓(Ga1-xInxAs)、磷化铟(InP)和磷砷化铟镓(Ga1-xInxAs1-yPy)、及磷化铟镓铝((AlxGa1-x)1-yInyP)中的任何一种。

9.如权利要求1所述的方法,进一步包括在第(n-1)个活性层上形成第(n)个活性层的步骤,其中,n是活性层总数,且是大于1的整数。

10.如权利要求1所述的方法,其中,所述背衬层由聚合物形成。

11.如权利要求1所述的方法,其中,所述背衬层由金属和聚合物的复合物形成。

12.如权利要求1所述的方法,其中,所述从活性层和基底之间除去牺牲层包括:

在酸浸蚀溶液中浸渍基底、牺牲层、活性层和背衬层以溶解牺牲层。

13.如权利要求1所述的方法,进一步包括以下步骤:

向活性层应用表面金属化层;和

向活性层应用抗反射涂层。

14.一种形成多种薄膜III-V族化合物太阳能电池的方法,该方法包括:

提供基底;

在基底上形成牺牲层;

在牺牲层上形成晶片大小的III-V族化合物太阳能电池;和

从晶片大小的太阳能电池和基底之间除去牺牲层,以按晶片大小的尺度从基底分离晶片大小的III-V族化合物太阳能电池。

15.一种形成柔性的III-V族化合物太阳能电池的方法,该方法包括:

接收之前用于形成III-V族化合物太阳能电池的基底;

在重复使用的基底上形成牺牲层;

在牺牲层上形成晶片大小的柔性的III-V族化合物太阳能电池;

在太阳能电池上形成背衬层;和

从太阳能电池和基底之间除去牺牲层,以按晶片大小的尺度从基底分离晶片大小的太阳能电池。

16.如权利要求15所述的方法,其中,所述柔性的III-V族化合物太阳能电池包括具有多个结的薄膜多结III-V族化合物太阳能电池。

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