[发明专利]制造薄膜Ⅲ-Ⅴ族化合物太阳能电池的方法无效
申请号: | 200880101271.9 | 申请日: | 2008-07-03 |
公开(公告)号: | CN101790794A | 公开(公告)日: | 2010-07-28 |
发明(设计)人: | N·潘;G·希勒;D·P·沃;R·塔塔瓦蒂;C·由特希;D·麦卡鲁姆;G·玛丁 | 申请(专利权)人: | 微连器件公司 |
主分类号: | H01L31/042 | 分类号: | H01L31/042 |
代理公司: | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人: | 陈文平;徐志明 |
地址: | 美国伊*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 制造 薄膜 化合物 太阳能电池 方法 | ||
1.一种制造薄膜III-V族化合物太阳能电池的方法,该方法包括以下步骤:
提供基底;
在基底上形成牺牲层;
在牺牲层上形成活性层;
在活性层上形成背衬层;和
从活性层和基底之间除去牺牲层,以便薄膜III-V族化合物太阳能电池与基底分离。
2.如权利要求1所述的方法,其中,所述薄膜III-V族化合物太阳能电池是柔性的。
3.如权利要求1所述的方法,其中,所述基底由III-V族化合物形成。
4.如权利要求1所述的方法,其中,所述基底之前用于另一薄膜III-V族化合物太阳能电池的制造。
5.如权利要求3所述的方法,其中,所述基底由砷化镓(GaAs)和磷化铟(InP)中的至少一种形成。
6.如权利要求1所述的方法,其中,所述牺牲层由砷化铝镓(AlxGa1-xAs)、砷化铟铝(InxAl1-xAs)、磷锑化铝(AlPxSb1-x)和砷锑化铝(AlAsxSb1-x)中的至少一种形成。
7.如权利要求1所述的方法,其中,所述活性层由III-V族化合物形成。
8.如权利要求7所述的方法,其中,所述III-V族化合物是砷化镓(GaAs)、磷化铟镓(Ga1-xInxP)、砷化铟镓(Ga1-xInxAs)、磷化铟(InP)和磷砷化铟镓(Ga1-xInxAs1-yPy)、及磷化铟镓铝((AlxGa1-x)1-yInyP)中的任何一种。
9.如权利要求1所述的方法,进一步包括在第(n-1)个活性层上形成第(n)个活性层的步骤,其中,n是活性层总数,且是大于1的整数。
10.如权利要求1所述的方法,其中,所述背衬层由聚合物形成。
11.如权利要求1所述的方法,其中,所述背衬层由金属和聚合物的复合物形成。
12.如权利要求1所述的方法,其中,所述从活性层和基底之间除去牺牲层包括:
在酸浸蚀溶液中浸渍基底、牺牲层、活性层和背衬层以溶解牺牲层。
13.如权利要求1所述的方法,进一步包括以下步骤:
向活性层应用表面金属化层;和
向活性层应用抗反射涂层。
14.一种形成多种薄膜III-V族化合物太阳能电池的方法,该方法包括:
提供基底;
在基底上形成牺牲层;
在牺牲层上形成晶片大小的III-V族化合物太阳能电池;和
从晶片大小的太阳能电池和基底之间除去牺牲层,以按晶片大小的尺度从基底分离晶片大小的III-V族化合物太阳能电池。
15.一种形成柔性的III-V族化合物太阳能电池的方法,该方法包括:
接收之前用于形成III-V族化合物太阳能电池的基底;
在重复使用的基底上形成牺牲层;
在牺牲层上形成晶片大小的柔性的III-V族化合物太阳能电池;
在太阳能电池上形成背衬层;和
从太阳能电池和基底之间除去牺牲层,以按晶片大小的尺度从基底分离晶片大小的太阳能电池。
16.如权利要求15所述的方法,其中,所述柔性的III-V族化合物太阳能电池包括具有多个结的薄膜多结III-V族化合物太阳能电池。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的