[发明专利]用于光刻法的可非共价交联的材料

权利要求书

1.一种组合件，其包括：

具有表面的基材；和

与所述表面相邻的非共价交联的层，所述层由包含溶解或分散在溶剂体系中 的聚合物的组合物形成；

所述聚合物是包含至少2种不同的重复单体的共聚物，其中，所述单体的至 少一种包含选自以下的官能团：醇、酚，所述单体的另一种包含选自以下的官能团： 叔胺、醚、氰基和羰基；所述单体选自以下的重复单体和它们的组合：

其中：

n是0-4；

R₁是保护基团；

各R₂独立地选自烷基、卤素和-OH；

R₃选自H、烷基、-CN、-Br、和-Cl；和

R₄选自烷基、

其中p是0-2；

其中，所述非共价交联层基本不溶于光刻胶溶剂中。

2.如权利要求1所述的组合件，其特征在于，R₁选自以下基团：

其中R₅选自烷基。

3.如权利要求1所述的组合件，其特征在于，所述聚合物包含以下重复单体：

其中：

R₁是保护基团；

n是0-4；和

各R₂独立地选自烷基、卤素和-OH。

4.如权利要求3所述的组合件，其特征在于，x:y的摩尔比为1:3至3:1。

5.如权利要求1所述的组合件，其特征在于，所述非共价交联的层包含具有 选自以下的结构式的交联的聚合物：

其中：

n是0-4；

各R₂独立地选自烷基、卤素和-OH；和

各R₆独立地选自-O-和-N-。

6.如权利要求1所述的组合件，其特征在于，所述基材具有包括许多几何形 貌特征元件的表面，所述几何形貌特征元件在所述基材上形成密集区域和隔离区 域。

7.如权利要求1所述的组合件，其特征在于，所述单体的至少一种是氢给体， 所述单体中的其它是氢受体。

8.如权利要求7所述的组合件，其特征在于，所述聚合物中氢给体与氢受体 的摩尔比为1:3至3:1。

9.如权利要求1所述的组合件，其特征在于，所述基材是微电子基材。

10.如权利要求9所述的组合件，其特征在于，所述基材选自硅、铝、钨、 硅化钨、砷化镓、锗、钽、亚硝酸钽、硅锗、二氧化硅、氮化硅、氧化铝、玻璃、 石英、和低k电介质。

11.如权利要求1所述的组合件，其特征在于，所述层基本可溶于光刻胶显 影剂。

12.如权利要求1所述的组合件，其特征在于，所述重复单体选自：

其中：

R₃选自H、烷基、-CN、-Br、和-Cl；和

R₄选自烷基和

其中所述组合物不可湿显影。

13.如权利要求1所述的组合件，其特征在于，所述组合物是旋涂碳组合物。

14.如权利要求1所述的组合件，其特征在于，所述组合物是硬掩模。