[发明专利]成像装置用部件

说明书

技术领域

本发明关于成像装置用部件，详细的是关于适宜用作复印机、传真机、打印机以及自动取款机(ATM)等的成像装置中的各种部件的成像装置用部件。 

背景技术

对于成像装置用部件，要求具备各种性能，由于必须兼具相互背反的性质，因此很多是通过在表面涂敷等形成被膜、形成多层结构来应对。 

表面的被膜例如日本专利第3404713号公报(专利文献1)或日本专利特开2000-221774号公报(专利文献2)所记载，通过金属电镀、金属涂敷、树脂涂敷等形成。 

此种被膜通常具备5μm以上的厚度。具体的，专利文献1的显影辊中，如权利要求1所记载，作为被膜的非磁性层的厚度为5～20μm。专利文献2的显影辊中，如实施例(0084栏)所记载，作为被膜的表面层的厚度为12±1μm。 

上述成像装置用部件的表面为微视下具有微细凹凸的粗糙面，具有所需的形状特性，可以控制与非接触物的接触状态，例如，将成像装置用部件的显影辊的表面放大、显示截面的话，是图1以及图2的模式图所显示的状态。 

被膜12的厚度在5μm以上的话，存在这样的问题，无法沿着图1所示的基材11的形状进行涂敷，基材11的部分凹凸形状会被掩盖，无法控制形状。此外，如图2所示，被膜12的厚度大于图1的话，基材11的所有凹凸形状被掩盖，由于被膜12的厚度不均匀或厚度的绝对值，会令成像装置用部件整体的电气特性或机械特性发生显著变化。结果会出现成像装置用部件的特性受被膜精度左右的问题。 

专利文献1：日本专利第3404713号公报 

专利文献2：日本专利特开2000-221774号公报 

发明内容

本发明的课题是，在基材和在该基材表面设置有被膜的成像装置用部件中，被膜可以维持基材的表面形状，被膜不会对各成像装置用部件所要求的基材的表面形状产生影响。 

为解决上述课题，本发明提供成像装置用部件，其特征为：具备有由经过交联的橡胶、热塑性树脂或热塑性弹性体形成且具有电阻值为10³～10¹⁰Ω的导电性的基材、和在该基材 表面具有由金属、金属氧化物、金属碳化物、金属氮化物或金属硫化物构成的金属被膜所形成的表面层，所述成像装置用部件包括带电辊、带电叶片、显影辊、复印辊、复印带或清洁辊。 

如上，本发明的成像装置用部件具备有：由经过交联的橡胶、热塑性树脂或热塑性弹性体构成的基材和设置在该基材表面的由上述金属被膜所形成的表面层的多层结构。 

上述基材以及金属被膜既可以各自仅由1层构成，也可以由不同组成的2层以上构成。其中，基材以及金属被膜的表面层都各自仅由1层构成的层积结构，制造简便、生产效率高，较为理想。 

优选上述基材的表面为粗面或形成有凹凸，具备有在维持该表面形状的状态下，厚度在1000nm以下的上述金属被膜。 

金属被膜的厚度在1000nm以下，是因为超过1000nm的话，如上述图1所记载，凹部被被膜掩盖，存在难以维持基材的表面形状，且由于被膜的厚度不均匀或厚度的绝对值，会令成像装置用部件整体的电气特性或机械特性发生显著变化的问题。 

上述金属被膜的厚度为1nm～1μm，优选5nm～990nm，更优选5～490nm，特别优选17～240nm。 

上述被膜的厚度下限值设定为1nm，是因为被膜的厚度不足1nm的话，可能无法达到设置被膜的效果。 

上述基材表面的表面粗糙度Rz为1μm～10μm，优选3～8μm，特别优选5～8μm。 

优选与涂敷在该基材表面的金属被膜的表面粗糙度Rz的差在2μm以下。此外，优选1.5μm以下，更优选1μm以下，特别优选0.3μm以下。 

上述表面粗糙度指的是根据JIS B 0601(1994)测定的“十点平均粗糙度Rz”。 

超过上述上限值的差的2μm的话，形成被膜时的精度会对基材的表面形状、电气特性·机械特性产生影响。上述差越小越好，下限值为0μm。 

用作上述金属被膜的金属由选自钛、铝、镍、铜、铬、钼、钨、锌、锡、铟、铁、银、金、镁以及它们的合金的一种或多种构成。优选由这些金属、金属氧化物、金属碳化物、金属氮化物或金属硫化物通过离子电镀形成的导电性被膜构成。这些金属中，可适当选择根据基材的材质附着强度增加、且具有所希望的导电率的物质。其中，考虑性能以及成本，适宜使用钛、铝、锌、铁。