[发明专利]医疗装置引导系统、医疗装置引导方法以及在医疗装置引导系统中使用的查找表的制作方法有效

专利信息
申请号: 200880102572.3 申请日: 2008-05-12
公开(公告)号: CN101820810A 公开(公告)日: 2010-09-01
发明(设计)人: 内山昭夫;木村敦志;约翰尼斯·赖因希克;沃尔夫冈·施米特 申请(专利权)人: 奥林巴斯医疗株式会社;西门子公司
主分类号: A61B1/00 分类号: A61B1/00;A61B5/06;A61B5/07
代理公司: 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 代理人: 刘新宇
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 医疗 装置 引导 系统 方法 以及 使用 查找 制作方法
【说明书】:

技术领域

本发明涉及一种具有对在体腔内通过引导而移动的医疗装置的位置进行检测的位置检测功能的医疗装置引导系统、医疗装置引导方法以及在医疗装置引导系统中使用的查找表(lookup table)的制作方法。 

背景技术

以往,作为进行被检体内观察的医疗装置之一,实际应用一种胶囊型内窥镜等胶囊型的医疗装置。胶囊型内窥镜被导入到体腔内,通过体腔内时由内置的摄像元件拍摄所期望的目标部位。此时,由于摄像元件的摄像范围(视角)固定,因此需要对胶囊型内窥镜的位置或朝向进行引导控制使得所期望的观察对象部位进入摄像范围。作为用于进行该引导控制的引导系统,例如存在专利文献1所示的引导系统。根据专利文献1,通过使引导用线圈所产生的引导用磁场作用于磁铁来进行胶囊型内窥镜的位置和朝向的控制,该引导用线圈被配置成包围内置磁铁的胶囊型内窥镜的周围6个面。 

在此,为了按照所期望的那样进行这种引导控制,正确地检测胶囊型内窥镜的当前位置的位置检测装置是必不可少的。因此,在专利文献1中,在胶囊型内窥镜的内部具备由线圈和电容器形成的LC谐振电路,通过向胶囊型内窥镜的位置检测范围放射的磁场来使该LC谐振电路发生谐振,由配置在位置检测范围周围的多个磁场传感器检测通过谐振而新产生的特定频率的磁场,根据各磁场传感器所检测出的磁场强度来求出胶囊型内窥镜的位置。 

另外,如专利文献2、3所示,通过内置于胶囊型内窥镜的磁场传感器来检测从外部向胶囊型内窥镜的位置检测范围放射的磁场,以此也能够进行胶囊型内窥镜的位置检测。 

这些专利文献1~3等所示的位置检测方式都利用理论上能够计算线圈在空间所形成的磁场分布的技术,因此不期望在位置检测范围内存在有可能破坏该磁场分布的导体、磁性体等。 

因此,在专利文献2中公开了如下方法:如果存在于位置检测范围内的干扰体等中流过涡流,则位置检测的精确度降低,因此通过利用不同频率的磁场求出涡流的时间常数来进行数据校正。另外,还公开了如下方法:在LUT(查找表)中事先保持计算并考虑到干扰体(屏蔽部件)所产生的效果的磁场分布,并读出该磁场分布。 

专利文献1:国际公开第05/112733号文本 

专利文献2:美国专利第6493573号说明书 

专利文献3:日本特开2006-75533号公报 

发明内容

发明要解决的问题

然而,由于在磁性引导系统内使用的磁性式位置检测装置受到来自引导用线圈的引导磁场的影响,因此存在位置检测精确度变差的问题。例如考虑如专利文献1所示的位置检测装置在磁性引导系统内进行动作的情况。在这种情况下,为了对胶囊型内窥镜产生高强度的引导用磁场,在位置检测范围的周围配置多个引导用线圈。在此,驱动引导用线圈的驱动用放大器为了减少驱动时的电力损失,大多为输出阻抗较低。因此,从位置检测装置来看,等效于存在两端被短路的多个线圈,因此产 生磁干涉,位置检测装置所需要的磁场分布与周围不存在线圈的状况有很大不同。因此通过引导用线圈的磁通所产生的电动势使感应电流流过由引导用线圈和驱动部形成的闭合电路,由于该感应电流导致从引导用线圈向位置检测装置的磁场传感器的位置产生不期望的不需要的磁场,导致位置检测装置的磁场传感器所检测出的检测值不正确。 

另外,在如专利文献2所示的从LUT中读出磁场分布本身的方式中,由于表的项目的细分程度等无法保持位置检测精确度的可能性较大。 

本发明是鉴于上述问题而完成的,其目的在于提供一种如下的医疗装置引导系统、医疗装置引导方法以及在医疗装置引导系统中使用的查找表的制作方法:能够不受在胶囊型的医疗装置的位置检测范围周围所配置的引导用线圈等所产生的不需要的磁场的影响,而以较少的计算量高速地进行正确的位置检测。 

用于解决问题的方案

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于奥林巴斯医疗株式会社;西门子公司,未经奥林巴斯医疗株式会社;西门子公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200880102572.3/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top