[发明专利]用于连续真空涂布网幅式材料的系统和方法无效

专利信息
申请号: 200880102767.8 申请日: 2008-08-05
公开(公告)号: CN101778963A 公开(公告)日: 2010-07-14
发明(设计)人: F·比柳恩达斯尤斯特;R·阿隆索埃斯特万;I·萨利纳斯阿里斯;G·伊达尔戈利纳斯 申请(专利权)人: 诺沃热尼奥公司
主分类号: C23C14/56 分类号: C23C14/56;C23C16/54
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 苗征;于辉
地址: 西班牙*** 国省代码: 西班牙;ES
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摘要:
搜索关键词: 用于 连续 真空 涂布网幅式 材料 系统 方法
【权利要求书】:

1.用于连续真空涂布并连续提供网幅式材料(2)的系统(1),其包含:

a)进给构件(3),其提供待涂布的网幅式材料;

b)至少一个输入室(4),其中引入待涂布的网幅式材料,且在其中进行输入大气压和涂布室(5)的真空压力之间的转变;

c)所述涂布室包括至少一个用于在网幅式材料上沉积金属和/或介电组分的真空沉积模块(6);

d)至少一个输出室(7),在其中进行涂布室的真空压力和大气压之间的转变;和

e)收集构件(8),其收集经涂布的网幅式材料;

其特征在于,所述系统还包含驱动和支持构件(9),网幅式材料通过其一个表面固定在所述驱动和支持构件上以运输,至少通过涂布室。

2.根据权利要求1的用于真空涂布的系统(1),其特征在于所述驱动和支持构件(9)及网幅式材料(2)在沉积室中沿着竖直取向的直线路径。

3.根据权利要求1的用于真空涂布的系统(1),其特征在于所述驱动和支持构件(9)及网幅式材料(2)在沉积室中沿着水平取向的直线路径。

4.根据权利要求3的系统(1),其特征在于所述真空沉积模块(6)位于网幅式材料(2)的裸露表面下方并与之相对。

5.根据前述权利要求任一项的系统(1),其特征在于所述真空沉积模块(6)的位置使得涂布直接在网幅式材料(2)上发生,并沿着和所述驱动和支持构件(9)的前进运动方向相垂直的方向在所述网幅式材料(2)上涂布,因而和所述网幅式材料的方向垂直。

6.根据前述权利要求任一项的系统(1),其特征在于所述沉积模块(6)独立地选自物理汽相沉积(PVD)技术沉积模块、化学汽相沉积(CVD)技术沉积模块、热沉积模块、电子枪沉积模块、溅射或离子注入技术沉积模块和等离子体处理沉积模块。

7.根据权利要求1到6任一项的系统(1),其特征在于其包含多个相同类型的沉积模块(6)。

8.根据权利要求1到6任一项的系统(1),其特征在于其包含多个不同性质的沉积模块(6)。

9.根据前述权利要求任一项的系统(1),其特征在于其包含至少一个包括一个以上磁控管的溅射或离子注入技术沉积模块(6)。

10.根据前述权利要求任一项的系统(1),其特征在于所述驱动和支持构件(9)由至少一个循环输送带(91)形成,所述网幅式材料(2)涂布在所述循环输送带(91)上,且所述网幅式材料连同所述循环输送带(91)至少沿着涂布室(5)向前移动。

11.根据权利要求10的系统(1),其特征在于所述循环输送带(91)涂有聚合粘合剂薄层,借助于热粘合过程,所述网幅式材料可分离地固定于所述薄层上。

12.根据权利要求11的系统(1),其特征在于所述聚合粘合剂薄层包含至少一种下述化合物:聚烯烃、EVA(乙烯-乙酸乙烯酯)、聚氨酯、PVB、或丙烯酸或其共聚物。

13.根据前述权利要求任一项的系统(1),其特征在于其具有用于牵引所述网幅式材料的机械牵引构件(10),该构件设置于输出室(7)附近,适合于将已经涂布的网幅式材料(22)与所述驱动和支持构件(9)分离。

14.根据前述权利要求任一项的系统(1),其特征在于所述驱动和支持构件(9)涂有粘合剂表层,所述网幅式材料(2)借助于接触过程和/或热粘合过程可分离地固定于所述表层上。

15.根据前述权利要求任一项的系统(1),其特征在于所述网幅式材料(2)的至少一个表面上涂有粘合剂并适合于直接固定于所述驱动和支持构件(9)。

16.根据前述权利要求任一项的系统(1),其特征在于所述进给构件(3)由松绕装置(31)形成;所述收集构件(8)由卷绕装置(81)形成。

17.根据前述权利要求任一项的系统(1),其特征在于所述输入室(4)和所述输出室(7)包含多个隔间(11),所述隔间(11)具有多个真空泵(12)。

18.根据前述权利要求任一项的系统(1),其特征在于其在进给构件(3)与驱动和支持构件(9)之间,和在驱动和支持构件与收集构件(8)之间包含张力控制构件(13)。

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