[发明专利]化妆模拟系统、化妆模拟装置、化妆模拟方法以及化妆模拟程序有效
申请号: | 200880102848.8 | 申请日: | 2008-08-07 |
公开(公告)号: | CN101779218A | 公开(公告)日: | 2010-07-14 |
发明(设计)人: | 后藤康男 | 申请(专利权)人: | 株式会社资生堂 |
主分类号: | G06T1/00 | 分类号: | G06T1/00;A45D44/00 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人: | 黄纶伟 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 化妆 模拟 系统 装置 方法 以及 程序 | ||
技术领域
本发明涉及一种化妆模拟系统、化妆模拟装置、化妆模拟方法以及 化妆模拟程序,特别地,涉及一种对包含在动态图像内的用户脸部进行 化妆的化妆模拟系统、化妆模拟装置、化妆模拟方法以及化妆模拟程序。
背景技术
目前为止,为了销售用于化妆的商品等,已经有了一种众所周知的 技术,即:不对脸部进行真化妆,而是在计算机上对化妆后的脸部进行 模拟(例如,参考专利文献1)。但是,在专利文献1中,因为模拟结果 是通过静态图像来显示的,所以,当用户表情发生变化时,很难对化妆 后的脸部进行确认。因此,已经开发一种在能够获得用户表情变化的动 态图像内对化妆进行模拟的技术(例如,参考专利文献2)。
但是,专利文献2所公开的化妆模拟装置是在与嘴部和双眼部相对应 的像素区域内对用户表情的变化进行指定,并通过使用模板匹配法对该 像素区域进行跟踪,来算出实施脸部化妆的化妆区域(例如,参考专利 文献2的第[0028]段)。这样,在与嘴部和双眼部相对应的像素区域内对 用户表情的变化进行跟踪不仅增大了计算机的处理负担,而且还存在着 难以正确应对闭眼等情况的问题。
专利文献1:(日本)特开2001-346627号公报
专利文献2:(日本)特开2003-44837号公报
发明内容
本发明想要解决的课题如下:
本发明是鉴于上述问题而提出的,其课题在于,提供一种能够以较 小的处理负荷对包含在动态图像内的用户脸部进行正确化妆的化妆模拟 系统、化妆模拟装置、化妆模拟方法以及化妆模拟程序。
解决上述课题的技术手段如下:
为了解决上述课题,本发明提供一种在对用户脸部进行了摄影的动 态图像内实施化妆的化妆模拟系统,该化妆模拟系统的特征在于,具有: 摄影单元,用于对用户脸部进行摄影并输出动态图像;控制单元,用于 接收从所述摄影单元所输出的动态图像,并对所述动态图像进行图像处 理,然后将其输出;显示单元,用于显示从所述控制单元所输出的动态 图像。其中,所述控制单元具有:脸部识别处理单元,用于根据预定的 跟踪点从所述动态图像中识别用户脸部;化妆处理单元,用于根据所述 预定的跟踪点对包含在所述动态图像内的用户脸部进行化妆,然后将其 输出至所述显示单元。所述化妆处理单元包含口红处理单元,该口红处 理单元根据包含在所述跟踪点内的上嘴唇的唇峰和唇谷的位置、嘴部的 左右端、下嘴唇的下端、以及、下嘴唇上的从左端到嘴部宽度的1/3的位 置以及下嘴唇上的从右端到嘴部宽度的1/3的位置,对包含在所述动态图 像内的用户脸部进行口红处理。
在本发明中,通过具有用于根据预定的跟踪点从动态图像中识别出 用户脸部的脸部识别处理单元、以及、用于根据跟踪点对包含在动态图 像内的用户脸部进行预定的化妆然后将其输出至显示单元的化妆处理单 元,能够以较少的处理负荷根据跟踪点从动态图像中识别出用户脸部, 并根据所述跟踪点对包含在动态图像内的用户脸部进行正确的化妆。
这里,需要说明的是,通过将本发明的构成要素、表现或者构成要 素的任意组合应用到其他方法、装置、系统、计算机程序、存储介质、 数据结构等中所得到的各种变化形式,仍属于本发明所涉及的范围。
本发明的效果如下:
根据本发明,可以提供一种能够以较小的处理负荷对包含在动态图 像内的用户脸部进行正确化妆的化妆模拟系统、化妆模拟装置、化妆模 拟方法以及化妆模拟程序。
附图说明
图1是本发明的化妆模拟装置的第一实施例的外观图。
图2是化妆模拟装置的第一实施例的截面图。
图3是本发明的化妆模拟装置的第二实施例的外观图。
图4是化妆模拟装置的第二实施例的截面图。
图5是本发明的化妆模拟装置的第三实施例的外观图。
图6是化妆模拟装置的第三实施例的截面图。
图7是本发明的化妆模拟装置的第四实施例的外观图。
图8是化妆模拟装置的第四实施例的截面图。
图9是本发明的化妆模拟装置的第五实施例的外观图。
图10是化妆模拟装置的第五实施例的截面图。
图11是化妆模拟装置的第五实施例的硬件构成图。
图12是表示化妆模拟装置所进行的处理的概要的流程图。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社资生堂,未经株式会社资生堂许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200880102848.8/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。