[发明专利]用于从废气流中除去至少一种氢硫属元素化合物的方法和设备

权利要求书

1.用于净化半导体元件制造过程的废气或工艺气体的方法，其中所述废气或工艺气体包含至少一种氢硫属元素化合物，所述氢硫属元素化合物包含以下至少一种：

a)硫(S)；

b)硒(Se)；

c)碲(Te)；以及

d)钋(Po)，

其中通过以下步骤在湿式洗涤器中从工艺气体除去所述氢硫属元素化合物：

-将工艺气体导入至少一种碱的水溶液中；

-将至少一种碱供给至水溶液，以及

-从水溶液中提取输出废气流，

其特征在于，控制所供给碱的量使得溶液的pH值大于12。

2.根据权利要求1所述的方法，其中所述水溶液不合碳酸盐。

3.根据前述权利要求任一项所述的方法，其中控制碱的供应使得环境的pH值大于13。

4.根据前述权利要求任一项所述的方法，其中所述碱包含至少一种以下化合物：

a)氢氧化钠(NaOH)，以及

b)氢氧化钾(KOH)。

5.根据前述权利要求任一项所述的方法，其中使所述水溶液循环。

6.根据权利要求5所述的方法，其中循环的水溶液至少部分作为液滴引入。

7.根据权利要求6所述的方法，其中引入至少两种直径的液滴。

8.根据前述权利要求任一项所述的方法，其中

-回收部分水溶液；

-测量该部分水溶液的pH值；

-基于该pH值，将一定量碱添加至该部分水溶液中；以及

-随后将该部分水溶液再循环至剩余水溶液中。

9.根据前述权利要求任一项所述的方法，其中将包含氧的气体引入至水性环境中。

10.使用包含至少一种氢硫属元素化合物的工艺气体制造半导体元件的方法，其中所述工艺气体的氢硫属元素化合物以前述权利要求任一项所述的方法除去。

11.设备(1)，其用于根据权利要求1-10任一项所述的方法净化来自输入废气流的半导体元件制造过程中的废气或工艺气体，所述设备(1)包括用于水性环境的湿式洗涤器单元，其特征在于用于将水性环境的pH值控制在大于12的水平的装置(17)。

12.根据权利要求11所述的设备(1)，其还包括至少一个pH传感器(16)和用于将碱溶液计量给予水溶液的泵(18)。