[发明专利]可控光学元件以及用热致动器操作光学元件的方法和半导体光刻的投射曝光设备

权利要求书

1.一种用于影响光学校正装置(203，600)中的温度分布的方法，包括：以局部界定方式向该光学校正装置(203，600)提供热并通过热沉(204，602，604)将热从该光学校正装置(203，600)取出，其特征在于，该光学校正装置(203，600)的平均温度在数百mK内保持恒定， 

其中，所述光学校正装置包括叠置的两个光学元件(601)，从而所述两个光学元件(601)的两个内面形成冷却介质流(602)的流动通道(604)，其中所述流动通道(604)包括用于供所述冷却介质流(602)通过的入口和出口； 

所述以局部界定方式向该光学校正装置提供热包括在面向流动通道(604)的界面上利用加热阵列作为应用到所述光学元件(601)上的热致动器而向所述光学元件(601)提供热；并且 

所述通过热沉(204，602，604)将热从光学校正装置取出包括使冷却介质流(602)经过所述流动通道(604)。 

2.如权利要求1所述的方法，其特征在于，选择比所述光学校正装置(203，600)的平均温度低数百mK至数10K的所述热沉(204，602，604)的恒定平均温度。 

3.如权利要求1所述的方法，其特征在于，使用电阻加热元件来局部界定热的提供。 

4.如权利要求1所述的方法，其特征在于，通过闭环或开环控制(211)影响所述光学校正装置(203，600)中的温度分布。 

5.如权利要求1所述的方法，其特征在于，通过闭环或开环控制(211)影响所述光学校正装置(203，600)中的平均温度。 

6.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述热沉(204)被实现以使其从所述光学校正装置(203，600)机械地解耦。 

7.如权利要求6所述的方法，其特征在于，所述热沉(204)从所述光学校正装置(203，600)振动解耦。 

8.如权利要求1至7之一所述的方法，其特征在于，所述光学校正装置(203，600)是透镜。 

9.具有影响光学校正装置(208、600)中的温度分布的热致动器(205) 的光学校正装置(208、600)，其中，所述光学校正装置(208、600)由至少两个就其传输热的能力而言有差异的局部元件(201、202、604)， 

其特征在于，所述光学校正装置包括叠置的两个光学元件(601)，从而光学元件(601)的两个内面形成冷却介质流的流动通道(604)，其中所述流动通道(604)包括用于供所述冷却介质流(602)通过的入口和出口；并且 

在面向流动通道(604)的界面上，加热阵列用作应用到所述光学元件(601)上的热致动器。 

10.如权利要求9所述的光学校正装置(600)，其特征在于，所述两个光学元件(601)形成为具有两个平面的内面的平面平行板。 

11.如权利要求9所述的光学校正装置(600)，其特征在于，所述热致动器包括具有非常精细的线的加热区(101)的加热阵列，其中，每一单个加热区(101)的加热电流能够被单独设置。 

12.如权利要求11所述的光学校正装置(600)，其特征在于，选择加热阵列的尺寸，以使得相关光学区域能够完全用加热区覆盖。 

13.如权利要求11所述的光学校正装置(600)，其特征在于，所述相关光学区域之外的区域被加热区覆盖。 

14.如权利要求11至13之一所述的光学校正装置(600)，其特征在于，每一加热区均配备有一温度传感器(606)。 

15.如权利要求14所述的光学校正装置(600)，其特征在于，所述温度传感器(606)布置在相比加热区减少的或稀疏的栅格上。 

16.如权利要求9所述的光学校正装置(600)，其特征在于，其包括在提供冷却流(602)的流动方向位于所述光学元件(601)上游的入口通道(608)。