[发明专利]成型方法、光学元件制造方法及阵列状光学元件无效

专利信息
申请号: 200880104351.X 申请日: 2008-08-21
公开(公告)号: CN101784378A 公开(公告)日: 2010-07-21
发明(设计)人: 细江秀 申请(专利权)人: 柯尼卡美能达精密光学株式会社
主分类号: B29C45/14 分类号: B29C45/14;G02B3/00;B29L11/00
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 岳雪兰
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 成型 方法 光学 元件 制造 阵列
【权利要求书】:

1.一种成型方法,其特征在于,包括下述工序:

第1工序,在具有光学转印面的一组模具之间,插入用透明无机材料形成的光学部件,然后使所述一组模具进入关闭状态;

第2工序,向使所述一组模具进入关闭时形成的成型腔内,注射能量固化性树脂,形成光学元件;

第3工序,使所述一组模具为打开状态,取出所述光学元件。

2.如权利要求1中记载的成型方法,其特征在于,所述成型腔是隔着所述光学部件形成在两侧的。

3.如权利要求1或2中记载的成型方法,其特征在于,所述成型腔备有能量固化性树脂的流路槽。

4.如权利要求1至3的任何一项中记载的成型方法,其特征在于,所述光学部件是平板状的。

5.如权利要求1至4的任何一项中记载的成型方法,其特征在于,所述光学部件是用光学玻璃形成的。

6.如权利要求1至4的任何一项中记载的成型方法,其特征在于,所述光学部件是用光学结晶及陶瓷的任何一种形成的。

7.如权利要求1至6的任何一项中记载的成型方法,其特征在于,所述光学转印面是非球面形状的。

8.如权利要求1至7的任何一项中记载的成型方法,其特征在于,预先在所述光学部件的表面上实施了光学成膜。

9.如权利要求1至8的任何一项中记载的成型方法,其特征在于,设有多个所述光学转印面,它们被配置成阵列状。

10.如权利要求9中记载的成型方法,其特征在于,所述光学部件具有对着所述光学转印面的多个透镜形状,被配置成阵列状。

11.一种阵列状光学元件,其特征在于,用权利要求9或10中记载的成型方法成型。

12.一种光学元件制造方法,其特征在于,在切断权利要求11中记载的阵列状光学元件进行单个化之前,在该阵列状光学元件的表面实施反射成膜及反射防止成膜的任何一种成膜。

13.如权利要求12中记载的光学元件制造方法,其特征在于,通过叠层多个所述阵列状光学元件,构成阵列状的透镜组。

14.如权利要求12或13中记载的光学元件制造方法,其特征在于,所述阵列状光学元件有阵列状的光学面,在所述光学面之间进行切断,被单个化。

15.如权利要求1至8的任何一项中记载的成型方法,其特征在于,所述光学部件具有对着所述光学转印面的透镜形状。

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