[发明专利]具有改进的耐磨性的可成像元件

权利要求书

1.一种正性工作可成像元件，其包括其上具有一个或多个可成像层的基材，所述可成像层的最外层包含分散在聚合物粘结剂内的无机、非金属、惰性离散颗粒，所述聚合物粘结剂在热成像之前不溶于碱性显影剂，且在热成像后可溶于所述碱性显影剂，

所述元件还包含辐射吸收性化合物，

所述离散颗粒具有1nm-0.5μm的平均粒度，并且基于最外可成像层的总干重计按至少1％的量存在于所述最外可成像层中。

2.权利要求1的元件，其中所述离散颗粒按1-50％的量存在于所述最外可成像层中，基于最外可成像层的总干重计。

3.权利要求1的元件，其中所述离散颗粒按5-30％的量存在于所述最外可成像层中，基于最外可成像层的总干重计。

4.权利要求1的元件，其中所述离散颗粒具有10-300nm的平均粒度。

5.权利要求1的元件，包括布置在所述基材上的内可成像层和布置在所述内可成像层上方的外可成像层，其中所述离散颗粒仅存在于所述外可成像层中。

6.权利要求1的元件，其中所述离散颗粒包含氧化硅、氧化铝或二氧化钛。

7.权利要求1的元件，其中所述辐射吸收性化合物是按1-25％的量存在的红外辐射吸收性化合物，基于它布置于其中的层的总干重计。

8.权利要求7的元件，其中所述红外辐射吸收性化合物存在于不同于所述最外可成像层的层中。

9.权利要求1的元件，它是平版印刷板前体并且所述基材是亲水性含铝基材。

10.一种提供图像的方法，包括：

A)将权利要求1的正性工作可成像元件成像，以提供具有曝光区域和未曝光区域的成像元件，和

B)用碱性显影剂将所述成像元件显影以仅除去所述曝光区域。

11.权利要求10的方法，其中使用波长为700-1400nm的红外激光进行所述成像。

12.权利要求10的方法，其中使用pH值为8-14的碱性显影剂进行所述显影。

13.权利要求10的方法，其中所述可成像元件在最外可成像层中包含离散的氧化硅颗粒。

14.通过权利要求10的方法制备的具有亲水性含铝基材的平版印刷板。

15.以堆叠方式排列的在各个独立正性工作可成像元件之间具有隔离纸的多个正性工作可成像元件，

各正性工作独立可成像元件包括其上具有一个或多个可成像层的基材，所述可成像层的最外层包含分散在聚合物粘结剂内的无机、非金属、惰性离散颗粒，所述聚合物粘结剂在热成像之前不溶于pH值至少12的碱性显影剂，且在热成像后可溶于所述碱性显影剂，

所述元件还包含辐射吸收性化合物，

所述离散颗粒具有1nm-0.5μm的平均粒度，并且基于最外可成像层的总干重计按至少1％的量存在于所述最外可成像层中。