[发明专利]对在井眼中使用的流体分析器进行校准的方法

权利要求书

1.一种井下工具的使用方法，包括以下步骤：

将包括流体分析器的井下工具下入到井眼内；

当所述井下工具位于所述井眼内时，通过所述流体分析器测量校准流 体或真空的特征；以及

使用所述校准流体或所述真空的测量特征和预期特征对所述流体分 析器进行校准，

对所述流体分析器进行校准包括以下步骤：

根据所述测量特征与所述预期特征的比较结果为所述流体分析器生 成校准值。

2.根据权利要求1所述的方法，进一步包括以下步骤：

当所述流体分析器位于所述井眼内时，对地层流体进行取样；以及

在对所述地层流体进行取样之前或在对所述地层流体进行取样之后， 使用所述校准值，以为所述地层流体生成校正特征。

3.根据权利要求1或2所述的方法，其中，所述校准流体的成分与将 要通过所述流体分析器测量的地层流体的成分基本上不同。

4.根据权利要求1或2所述的方法，其中，测量所述校准流体或所述 真空的特征包括以下步骤：

测量光谱信息。

5.根据权利要求1或2所述的方法，其中，所述测量特征和所述预期 特征包括光密度值。

6.根据权利要求1或2所述的方法，其中，所述校准流体是烷烃、油、 水、空气、氮气、二硫化碳或二氧化碳中的至少一种。

7.根据权利要求1或2所述的方法，其中，测量所述校准流体或所述 真空的特征包括以下步骤：

测量多个波长下的光密度值。

8.根据权利要求1所述的方法，其中，通过将与所述校准流体在地面 条件下的特征相对应的第一值乘以表示所述校准流体相对于所述地面条 件下在所述井眼内执行测量步骤的位置处的密度变化的第二值，获得所述 预期特征。

9.根据权利要求8所述的方法，其中，所述第一值是光密度值。

10.根据权利要求8或9所述的方法，其中，所述第二值是表示所述校 准流体在所述位置处的密度的值与表示所述校准流体在所述地面条件下 的密度的值的比。

11.根据权利要求10所述的方法，其中，使用密度估计方程或由井下 工具在所述位置处得到的密度测量值获得表示所述校准流体在所述位置 处的密度的值。

12.根据权利要求1或2所述的方法，其中，使用在井眼内执行测量步 骤的位置处的条件从在地面上得到的所述校准流体的测量值得出所述预 期特征来获得所述预期特征。

13.根据权利要求1或2所述的方法，还包括以下步骤：

在将所述井下工具下入到所述井眼内之前，在地面上执行所述流体分 析器的基线校准。

14.根据权利要求1或2所述的方法，其中，测量所述校准流体或所述 真空的特征包括以下步骤：

测量粘度、测量电阻率、或执行核磁共振测量。

15.根据权利要求1或2所述的方法，其中，所述预期特征基于所述校 准流体或所述真空对井下条件的已知响应。

16.根据权利要求1或2所述的方法，其中，使用所述校准流体或所述 真空的测量特征和预期特征对所述流体分析器进行校准包括以下步骤：

根据所述预期特征与所述测量特征特之间的差调节所述流体分析器 的基线值。