[发明专利]含硅的精细图案形成用组合物以及使用它的精细图案形成方法

权利要求书

1.一种精细图案形成方法，包括：

通过光刻法在基底上形成抗蚀图；

将精细图案形成用组合物施加到该抗蚀图上；

加热该抗蚀图以使存在于该抗蚀图邻近区域的精细图案形成 用组合物固化；以及

对该抗蚀图进行冲洗处理来除去未固化的精细图案形成用组 合物，

其中所述精细图案形成用组合物包含：含有具有硅氮烷键的 重复单元的树脂；和能溶解该树脂而不能溶解抗蚀图的溶剂。

2.根据权利要求1的精细图案形成方法，其中具有硅氮烷键的 重复单元由以下通式(I)表示：

其中R¹～R³各自独立地为从氢、碳原子数为1～6的饱和烃基 以及具有碳原子数为1～6的饱和烃基的硅氮烷基中选出的基团。

3.根据权利要求1或2的精细图案形成方法，其中该树脂包含 两种或更多种具有硅氮烷键的重复单元。

4.根据权利要求1或2的精细图案形成方法，其中该树脂的重 均分子量为500～100000。

5.根据权利要求1或2的精细图案形成方法，其中该溶剂是从 醚和饱和烃中选出的溶剂。

6.根据权利要求1的精细图案形成方法，其中用于固化的加热 在60～150℃的条件下进行10～300秒。

7.根据权利要求1或6的精细图案形成方法，其中用精细图案 形成用组合物中含有的溶剂进行所述冲洗处理。