[发明专利]针对透明基底材料的具有提高的光学性能的透明多孔SiO2涂层无效
申请号: | 200880106977.4 | 申请日: | 2008-08-12 |
公开(公告)号: | CN101802058A | 公开(公告)日: | 2010-08-11 |
发明(设计)人: | F·埃德 | 申请(专利权)人: | 西门子公司 |
主分类号: | C08J5/18 | 分类号: | C08J5/18;C03C1/00;C03C17/00 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 石克虎;林森 |
地址: | 德国*** | 国省代码: | 德国;DE |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 针对 透明 基底 材料 具有 提高 光学 性能 多孔 sio sub 涂层 | ||
1.针对透明基底材料的透明涂层,其特征在于,所述涂层基于 SiO2,具有≥35%至≤65%的孔隙率和依擦拭试验≥95%的透射率。
2.权利要求1的涂层,其特征在于,所述涂层的厚度为≥90nm 至≤130nm。
3.权利要求1或2的涂层,其特征在于,所述涂层的折射系数 n1为至其中n2是基底材料的折射指数。
4.权利要求1或2的涂层,其特征在于,所述涂层是多孔实心成 形体。
5.权利要求1或2的涂层,其特征在于,所述SiO2涂层借助溶 胶-凝胶法和随后的等离子体处理而制备。
6.用于制备权利要求1-5之一的针对透明基底材料的透明涂层的 方法,其特征在于,所述方法基于溶胶-凝胶工艺和随后的等离子体处 理。
7.权利要求6的方法,其中所述等离子体处理在≥2bar至≤8bar 的工艺气体压力实施。
8.权利要求6或7的方法,其特征在于,在所述溶胶-凝胶工艺 的至少一部分期间,存在至少一种引起孔隙率的组分,该组分在溶胶 -凝胶工艺结束之后去除和/或破坏。
9.权利要求6或7的方法,其特征在于,在所述溶胶-凝胶工艺 的至少一部分期间,存在至少一种引起孔隙率的组分,该组分在溶胶 -凝胶工艺结束之后经等离子体处理去除和/或破坏。
10.光学构件,包括透明基底材料以及施加和/或设置在该基底材 料上的根据权利要求1-5之一的涂层。
11.权利要求10的光学构件,其特征在于,所述基底材料选自包 括以下的群组:玻璃、透明塑料以及它们的混合物。
12.权利要求10的光学构件,其特征在于,所述基底材料选自包 括以下的群组:聚碳酸酯、聚丙烯酸类和它们的混合物。
13.权利要求10-12之一的光学构件的制备方法,其特征在于, 通过浸涂和/或旋涂将所述涂层施加在所述基底材料上和随后使其经 受等离子体处理。
14.一种用途,所述用途为根据权利要求1-5之一的涂层或根据 权利要求10-12之一的光学构件用于下列的用途:
-光学仪器
-眼镜
-汽车工业中的前灯外壳和/或
-玻璃。
15.权利要求14的用途,其中所述用途为用于汽车工业中的玻璃 和/或用于驾驶舱窗玻璃中的用途。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于西门子公司,未经西门子公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200880106977.4/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:电源装置
- 下一篇:磁性组件、流体流动组件和指示器