[发明专利]针对透明基底材料的具有提高的光学性能的透明多孔SiO2涂层无效

专利信息
申请号: 200880106977.4 申请日: 2008-08-12
公开(公告)号: CN101802058A 公开(公告)日: 2010-08-11
发明(设计)人: F·埃德 申请(专利权)人: 西门子公司
主分类号: C08J5/18 分类号: C08J5/18;C03C1/00;C03C17/00
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 石克虎;林森
地址: 德国*** 国省代码: 德国;DE
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摘要:
搜索关键词: 针对 透明 基底 材料 具有 提高 光学 性能 多孔 sio sub 涂层
【权利要求书】:

1.针对透明基底材料的透明涂层,其特征在于,所述涂层基于 SiO2,具有≥35%至≤65%的孔隙率和依擦拭试验≥95%的透射率。

2.权利要求1的涂层,其特征在于,所述涂层的厚度为≥90nm 至≤130nm。

3.权利要求1或2的涂层,其特征在于,所述涂层的折射系数 n1为至其中n2是基底材料的折射指数。

4.权利要求1或2的涂层,其特征在于,所述涂层是多孔实心成 形体。

5.权利要求1或2的涂层,其特征在于,所述SiO2涂层借助溶 胶-凝胶法和随后的等离子体处理而制备。

6.用于制备权利要求1-5之一的针对透明基底材料的透明涂层的 方法,其特征在于,所述方法基于溶胶-凝胶工艺和随后的等离子体处 理。

7.权利要求6的方法,其中所述等离子体处理在≥2bar至≤8bar 的工艺气体压力实施。

8.权利要求6或7的方法,其特征在于,在所述溶胶-凝胶工艺 的至少一部分期间,存在至少一种引起孔隙率的组分,该组分在溶胶 -凝胶工艺结束之后去除和/或破坏。

9.权利要求6或7的方法,其特征在于,在所述溶胶-凝胶工艺 的至少一部分期间,存在至少一种引起孔隙率的组分,该组分在溶胶 -凝胶工艺结束之后经等离子体处理去除和/或破坏。

10.光学构件,包括透明基底材料以及施加和/或设置在该基底材 料上的根据权利要求1-5之一的涂层。

11.权利要求10的光学构件,其特征在于,所述基底材料选自包 括以下的群组:玻璃、透明塑料以及它们的混合物。

12.权利要求10的光学构件,其特征在于,所述基底材料选自包 括以下的群组:聚碳酸酯、聚丙烯酸类和它们的混合物。

13.权利要求10-12之一的光学构件的制备方法,其特征在于, 通过浸涂和/或旋涂将所述涂层施加在所述基底材料上和随后使其经 受等离子体处理。

14.一种用途,所述用途为根据权利要求1-5之一的涂层或根据 权利要求10-12之一的光学构件用于下列的用途:

-光学仪器

-眼镜

-汽车工业中的前灯外壳和/或

-玻璃。

15.权利要求14的用途,其中所述用途为用于汽车工业中的玻璃 和/或用于驾驶舱窗玻璃中的用途。

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