[发明专利]具有玻璃功能的基底的表面结构化方法及具有结构化表面的玻璃产品

权利要求书

1.表面结构化方法，即在具有玻璃功能的基底的至少一部分表面 上形成至少一个具有特征尺寸的图案的阵列，该方法特征在于，在大 气压下，在火焰中使包含至少一种待沉积材料的前体的溶液离解，所 述火焰被引向所述表面部分，以使得以多个基于所述材料的结核的形 式沉积掩模，使所述材料的所述掩模经历蚀刻步骤。

2.如权利要求1所述的结构化方法，其特征在于，蚀刻步骤通过 大气压等离子体进行辅助。

3.如权利要求1所述的结构化方法，其特征在于，蚀刻步骤通过 真空蚀刻技术进行辅助。

4.如前述权利要求之一所述的结构化方法，其特征在于，基底的 所述表面部分预先被加热至低于350℃的适中温度。

5.如权利要求1-3之一所述的结构化方法，其特征在于，所述材 料的前体以喷雾的形式喷射到火焰中。

6.如权利要求1-3之一所述的结构化方法，其特征在于，所述材 料的掩模被沉积在预先覆有至少一层基于第二种材料的层的基底的 部分表面上。

7.如权利要求1至3之一所述的结构化方法，其特征在于，所述材 料的掩模被沉积在裸露基底的部分表面上。

8.如权利要求1-3之一所述的结构化方法，其特征在于，在基底 和火焰之间建立相对运动。

9.如权利要求8所述的结构化方法，其特征在于，所述运动可以 为恒定速度以保证再现性或者为调节的可变速度以获得不同的结构。

10.如权利要求1-3之一所述的结构化方法，其特征在于，图案的 至少一个特征尺寸小于1毫米。

11.如权利要求1-3之一所述的结构化方法，其特征在于，所述结 构化形成凸起的阵列，和/或拉长图案的阵列，所述图案任选地是倾斜 的。

12.具有玻璃功能的基底，其通过权利要求1至11之一所述的方法 获得并具有等于或大于0.1平方米的面积。

13.如权利要求12所述的具有玻璃功能的基底，其特征在于，其 特征尺寸中的一个w为微米级或亚微米级的。

14.如权利要求12或13所述的具有玻璃功能的基底，其特征在于， 所述图案由高度h、宽度w和距离d限定，其中距离d选择为在10纳米和 1毫米之间，纵横比h/w选择为小于或等于10。

15.如权利要求12至13之一所述的具有玻璃功能的基底，其特征 在于，该基底旨在用于在建筑物、汽车中，或者为疏水或亲水的玻璃 窗。