[发明专利]制造滤色器阵列的方法

权利要求书

1.一种用于制造滤色器阵列和大气阻挡层的方法，包括步骤：将半 反射材料层涂敷到衬底上、气相沉积本质上透明的层以便在半反射材料 层的顶部上形成具有一厚度的第一光干涉层和一个或多个阶段，所述一 个或多个阶段中的每个阶段包括：通过在第一或前一光干涉层上进行印 刷而形成图案化层、在整个图案化层上气相沉积本质上透明的层以便在 与第一或前一光干涉层组合时提供光干涉层、用溶剂去除图案化层；以 及在最后的光干涉层之上涂敷第二层半反射材料。

2.如权利要求1所述的方法，其中，在最后的阶段之后去除所述图 案化层以代替在每个阶段中去除图案化层。

3.如权利要求1或2所述的方法，其中，所述半反射材料层包括金 属的薄涂层。

4.如权利要求3所述的方法，其中，所使用的金属是铝。

5.如权利要求1或2所述的方法，其中，所述半反射材料层包括多 层层叠的布拉格反射器，所述布拉格反射器具有多层交替的具有高和低 折射率的金属氧化物。

6.如权利要求1或2所述的方法，其中，所述半反射材料层包括多 层层叠的布拉格反射器，所述布拉格反射器具有多层交替的具有高和低 折射率的金属氧化物，其中，层厚度的比被最优化以减少随着变化的观 察角度而发生的颜色变化。