[发明专利]偏振板、光学薄膜及图像显示装置

权利要求书

1.一种偏振板，其特征在于，所述偏振板含有拉伸层叠体，所述拉伸层叠体是层叠有基材层和亲水性高分子层的层叠体经拉伸处理而成的，且所述亲水性高分子层至少吸附有二色性物质。

2.根据权利要求1所述的偏振板，其特征在于，层叠有基材层和亲水性高分子层的层叠体是通过在基材层上涂敷含有亲水性高分子的水溶液后干燥而获得的。

3.根据权利要求1所述的偏振板，其特征在于，层叠有基材层和亲水性高分子层的层叠体是通过基材层的形成材料和亲水性高分子层的形成材料的共挤出来形成的。

4.根据权利要求1～3的任一项所述的偏振板，其特征在于，层叠有基材层和亲水性高分子层的层叠体是基材层和亲水性高分子层直接层叠而成的。

5.根据权利要求1～4的任一项所述的偏振板，其特征在于，形成亲水性高分子层的亲水性高分子为聚乙烯醇系树脂。

6.根据权利要求1～5的任一项所述的偏振板，其特征在于，拉伸层叠体中的亲水性高分子层的厚度为0.5～30μm。

7.根据权利要求1～6的任一项所述的偏振板，其特征在于，亲水性高分子层经过了交联处理。

8.根据权利要求1～7的任一项所述的偏振板，其特征在于，拉伸层叠体中的基材层的透湿度为120g/m²/24h以下。

9.一种光学薄膜，其特征在于，其至少层叠有1片权利要求1～8的任一项所述的偏振板。

10.一种图像显示装置，其特征在于，其使用了权利要求1～8的任一项所述的偏振板或权利要求9所述的光学薄膜。

11.一种偏振板的制造方法，其特征在于，其包括以下工序：

通过在基材层上涂敷含有亲水性高分子的溶液后将所述含有亲水性高分子的溶液干燥，从而在所述基材层上形成亲水性高分子层，制成层叠有基材层和亲水性高分子层的层叠体的工序；

对所述层叠体实施拉伸处理以制成拉伸层叠体的拉伸工序；以及

使所述层叠体的亲水性高分子层吸附二色性物质的染色工序。

12.一种偏振板的制造方法，其特征在于，其包括以下工序：

通过基材层的形成材料和亲水性高分子层的形成材料的共挤出，制成层叠有基材层和亲水性高分子层的层叠体的工序；

对所述层叠体实施拉伸处理以制成拉伸层叠体的拉伸工序；以及

使所述层叠体的亲水性高分子层吸附二色性物质的染色工序。

13.根据权利要求11或12所述的偏振板的制造方法，其特征在于，形成亲水性高分子层的亲水性高分子为聚乙烯醇系树脂。

14.根据权利要求11～13的任一项所述的偏振板的制造方法，其特征在于，拉伸层叠体中的亲水性高分子层的厚度为0.5～30μm。

15.根据权利要求11～14的任一项所述的偏振板的制造方法，其特征在于，其进一步具有对所述层叠体的亲水性高分子层实施交联处理的工序。

16.根据权利要求11～15的任一项所述的偏振板，其特征在于，拉伸层叠体中的基材层的透湿度为120g/m²/24h以下。