[发明专利]电子组件制造流出物的环境空气减弱的设备与方法

说明书

本发明主张2008年3月21日申请的美国非临时专利申请序号第 12/053,480号且专利名称为「电子组件制造流出物的环境空气减弱设备及方 法(APPARATUS AND METHODS FOR AMBIENT AIR ABATEMENT OF ELECTRONIC DEVICE MANUFACTURING EFFLUENT)」的优先权，而 该申请主张2007年9月20日申请的临时专利申请序号第60/973,977号且 专利名称为「于半导体组件制造流出物的减弱过程中使用环境空气的方法及 设备(METHODS AND APPARATUS FOR USING AMBIENT AIR DURING ABATEMENT OF SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURING EFFLUENTS)」的优先权。在此将这些专利申请的整体基于所有目的而并 入以作为参考。

技术领域

本发明有关于电子组件制造，并且更明确地说，有关于危险及/或不期 望存在的化合物的减弱(abatement)系统，该系统使用环境空气(ambient air)作为氧化剂。

背景技术

常规电子组件制造流出物减弱系统通常使用洁净干燥空气(CDA)作为 氧化剂。CDA，如其名称所指，可以是经过干燥及高度过滤的空气，而CDA 的制备有一定的成本。在一电子组件制造设施内，CDA通常是以相当高的 压力供应至该设施各处，其可以是约90psi、或更高或更低。就在一特定电 子组件制造设施系统中使用而言，例如一减弱系统，该设施CDA的压力随 后可被降低至该特定系统所要求的压力。CDA的加压需要设备及能量。CDA 压力的降低则至少需要设备。

据此，希望有用来降低与在一减弱单元内使用CDA有关的成本的方法 及设备。

发明内容

在一实施方式中，提供一种减弱系统，该系统包含：1)一减弱单元，适 于减弱流出物；以及2)一环境空气供应系统，包含有一空气移动装置，其中 该环境空气供应系统适于供应环境空气至该减弱单元以用作一氧化剂。

在另一实施方式中，提供一种供应环境空气至一减弱单元以用作一氧化 剂的系统，该系统包含：1)一空气移动装置；以及2)一歧管，与该空气移动 装置连接并适于供应空气至该减弱单元，其中该空气移动装置及该歧管适于 接收来自一环境空气源的空气。

在另一实施方式中，提供一种使用环境空气来作为一氧化剂以减弱流出 物的方法，该方法包含：1)提供一减弱单元，其适于减弱来自一电子组件制 造处理工具的流出物；2)提供一环境空气供应系统，其包含一空气移动装置， 其中该环境空气供应系统适于提供环境空气至该减弱单元；以及3)利用该环 境空气供应系统所供应的环境空气来减弱该减弱单元内的流出物。根据本发 明的这些及其它方式而提供多种其它实施方式。本发明的其它特征结构及实 施方式可从如下详细描述、权利要求书及附图而获得更完整的呈现。

附图说明

图1是本发明的一减弱系统的概要图。

图2是图1的减弱系统的第二实施例的概要图。

图3是本发明的环境空气供应系统的概要图。

图4是本发明的环境空气供应系统的另一实施例的概要图。

图5A和5B是可用于本发明的空气流量放大器的剖面侧视图。

图6示出一种根据本发明操作一减弱单元的方法的流程图。

具体实施方式

电子组件制造过程使用数种的反应剂，并且某些未使用的反应剂可能会 通过处理工具。这些未使用的反应剂，若其仅是绕经设施排放系统，则可能 对环境造成伤害，或有引起火灾或爆炸的风险。此外，电子组件制造过程可 能产生会引起类似伤害或风险的副产物。为了简化，在此将有害的、有毒的、 可燃的及/或具爆炸性的未使用反应剂及副产物称为“不期望存在的流出 物”或仅称为”流出物”。

为了避免对于环境的危害，以及对于员工和大众的风险，电子组件制造 产业欣然接受对于不期望存在的流出物的减弱。不期望存在的流出物的减弱 可采取许多形式，但最终是利用减弱而将不期望存在的流出物转化为无或较 少危害或风险的物质。一种减弱不期望存在的流出物的方法是在一减弱反应 器或单元中利用例如氧气的氧化剂来氧化该流出物。已用于减弱单元的现成 的氧化剂源是CDA，其通常可从设施CDA源中获得。