[发明专利]具有存在反应性气体空间分离的气体输送头和通过该输送头的基材运动的形成薄膜用的方法和沉积系统

权利要求书

1.将固体材料薄膜沉积到基材上的系统，包括：

A)至少第一、第二和第三气态材料的至少第一、第二和第三源；

(B)具有基材表面和单位面积平均重量的基材；

(C)将气态材料输送至用于薄膜沉积的基材表面的沉积输送头，其包括：

i)分别用于接收第一、第二和第三气态材料的至少第一、第二和第三入口；

ii)至少一个用于排出废气的排气端口；和

iii)邻近基材表面的输出面，包括多个细长开口，其中

(a)各入口独立地连向沉积输送头的面中的至少一个第一、第二和第三细长输出口，各自与相应的细长第一、第二和第三细长发射通道相连，以向基材供应各自的气态材料；且

(b)至少一个排气端口连向沉积输送头的面中的至少两个细长排气口，各自与相应的细长排气通道相连，各自具有相关压力，其中布置至少两个细长排气口以使至少第一、第二或第三细长输出口位于至少两个细长排气口之间；且

其中至少部分通过由一种或多种气态材料流从细长输出口到基材表面产生的压力保持输出面与基材表面之间的基本均匀的距离，且其中以帕斯卡为单位测得的大气压与细长排气口的平均压力之差为也以帕斯卡为单位测得的基材单位面积平均重量的至少两倍。

2.权利要求1的系统，其中第一和第二入口各自分别独立地连向多个第一细长发射通道和多个第二细长发射通道；

其中各第一细长发射通道连向相应的细长输出口，它们各自在其两个长边上都与最近的第二细长输出口被相对较近的细长排气口和相对较远的第三细长吹扫气体口隔开；且

其中各第二细长输出口在两个长边上都与最近的第一细长输出口被相对较近的细长排气口和相对较远的第三细长吹扫气体输出口隔开。

3.权利要求1的系统，其中该系统在最靠近输送设备输出面边缘的一侧上没有第二或第一细长输出口的输送头两端的各端上包括第三细长输出口。

4.权利要求1的系统，其中基材位于沉积输送头上方，以致基材重量用于将基材拉向沉积输送头。

5.权利要求1的系统，其中基材位于沉积输送头下方，以致通过由细长排气口产生的保持力对抗用于将基材拉离沉积输送头的基材重量。

6.权利要求1的系统，其中沉积输送头固定在该系统内，且基材相对于沉积输送头运动。

7.权利要求1的系统，其中输出面具有弯曲部分。

8.权利要求7的系统，其中输出面的弯曲部分具有大于1米的半径。

9.权利要求7的系统，其中弯曲部分的轴平行于基材运动方向。

10.权利要求7的系统，其中弯曲部分的轴垂直于基材运动方向。

11.权利要求1的系统，包括负载基材的附加装置。

12.权利要求1的系统，包括使基材相对于沉积输送头移动的附加装置

13.权利要求1的系统，其中基材是网。

14.权利要求13的系统，其中通过传送装置提供网的运动，该运动连续通过该系统或是往复的。

15.权利要求1的系统，其中基材和沉积输送头向大气敞开。

16.权利要求1的系统，其中输出面与基材表面之间保持的基本均匀的距离小于0.5毫米。