[发明专利]通过大气压力下的原子层沉积(ALD)制造光学膜的方法

权利要求书

1.一种制备光学膜或光学阵列的方法，包括：

提供递送头(10)，所述递送头(10)具有用于为在基底(20) 上沉积薄膜材料提供气体材料的输出面(36)，并且包括：

多个进口，所述多个进口包括能够分别接收第一、第二和第三 气体材料的共同供应的至少第一、第二和第三进口；

第一多个伸长发射通道、第二多个伸长发射通道和第三多个伸 长发射通道，所述第一、第二和第三伸长发射通道中的每一个能够 与对应的所述第一、第二和第三进口之一气态流体连通；

其中所述第一、第二和第三多个伸长发射通道中的每一个沿长 度方向并且基本平行地延伸；

其中每个第一伸长发射通道沿其每个伸长侧通过第三伸长发射 通道与最接近的第二伸长发射通道分隔；

其中每个第一伸长发射通道和每个第二伸长发射通道位于第三 伸长发射通道之间；

沿所述伸长的基本平行的通道同时导入一系列气流以在所述基 底(20)上形成薄膜；

其中所述一系列气流依次包括至少第一反应性气体材料、惰性 吹扫气体和第二反应性气体材料；

其中所述第一反应性气体材料能够与经所述第二反应性气体材 料处理过的基底表面反应以形成所述薄膜；

其中所述方法基本上在大气压力下或在高于大气压力下实施； 和

在单一输出通道处应用反应性气体的混合物。

2.根据权利要求1所述的方法，其中在沉积过程中所述基底的温 度低于250℃。

3.根据权利要求1所述的方法，其中所述薄膜包封所述基底。

4.根据权利要求1所述的方法，其中所述基底包括OLED器件。

5.根据权利要求1所述的方法，其中所述基底包括光伏器件。

6.根据权利要求1所述的方法，其中所述基底包括传感器。

7.根据权利要求1所述的方法，其中所述基底包括传感器阵列。

8.根据权利要求1所述的方法，其中所述第一或所述第二反应性气 体材料包括气体混合物。

9.根据权利要求1所述的方法，其中所述薄膜是干涉滤光器。

10.根据权利要求1所述的方法，其中所述薄膜选择性地反射环境 紫外光。

11.根据权利要求1所述的方法，其中所述薄膜是Rugate滤光器。

12.根据权利要求8所述的方法，其中所述第一反应性气体材料或所 述第二反应性气体材料的混合物选自包括介电氧化物的组。