[发明专利]用于金属的化学机械抛光的浆料组合物以及使用其的抛光方法有效
申请号: | 200880111053.3 | 申请日: | 2008-01-21 |
公开(公告)号: | CN101821354A | 公开(公告)日: | 2010-09-01 |
发明(设计)人: | 周霍摩;金元来;卢钟一;李仁庆;李泰永 | 申请(专利权)人: | 第一毛织株式会社 |
主分类号: | C09K3/14 | 分类号: | C09K3/14 |
代理公司: | 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 | 代理人: | 吴贵明;张英 |
地址: | 韩国庆*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 金属 化学 机械抛光 浆料 组合 以及 使用 抛光 方法 | ||
1.一种用于金属的化学机械抛光(CMP)的浆料前体组合物, 包括:液体载体、研磨剂、络合剂、腐蚀抑制剂以及共聚物, 其中,所述共聚物具有632,111至945,281的重均分子量并且 包括共聚合比为10:90至80:20的丙烯酸和丙烯酰胺单体,其 中由所述浆料前体组合物制备的浆料组合物呈现出非普列斯 东行为。
2.根据权利要求1所述的浆料前体组合物,其中,所述共聚物的 重均分子量使用作为分子量标准的支链淀粉与含水移动相通 过凝胶渗透层析(GPC)来确定。
3.根据权利要求1所述的浆料前体组合物,其中,基于所述液体 载体和溶解或悬浮在其中的任何其它组分的重量,所述共聚物 以按重量计0.001%至1%的量存在。
4.根据权利要求1所述的浆料前体组合物,其中,所述研磨剂为 氧化铝或硅石。
5.根据权利要求1所述的浆料前体组合物,其中,基于所述液体 载体和溶解或悬浮在其中的任何其它组分的重量,所述研磨剂 以按重量计0.1%至20%的量存在。
6.根据权利要求1所述的浆料前体组合物,其中,所述络合剂选 自由羰基化合物、醇类、含胺化合物、以及它们的组合组成的 组。
7.根据权利要求1所述的浆料前体组合物,其中,基于所述液体 载体和溶解或悬浮在其中的任何其它组分的重量,所述络合剂 以按重量计0.01%至5%的量存在。
8.根据权利要求1所述的浆料前体组合物,其中,所述腐蚀抑制 剂选自由氨、烷基胺类、氨基酸类、亚胺类、唑类、以及它们 的组合组成的组。
9.根据权利要求1所述的浆料前体组合物,其中,所述腐蚀抑制 剂包括苯并三唑及其衍生物。
10.根据权利要求1所述的浆料前体组合物,其中,所述腐蚀抑制 剂为2,2’-[[(5-甲基-1H-苯并三唑-1-基)-甲基]亚胺基]二-乙醇 与2,2’-[[(4-甲基-1H-苯并三唑-1-基)-甲基]亚胺基]二-乙醇的 异构混合物。
11.根据权利要求1所述的浆料前体组合物,其中,基于所述液体 载体和溶解或悬浮在其中的任何其它组分的重量,所述腐蚀抑 制剂以按重量计0.005%至5%的量存在。
12.根据权利要求1所述的浆料前体组合物,进一步包括pH调节 剂。
13.根据权利要求12所述的浆料前体组合物,其中,所述pH调 节剂选自由氢氧化钠、氢氧化钾、氢氧化铵、碳酸钠、碳酸钾、 硫酸、盐酸、硝酸、磷酸、柠檬酸、磷酸钾、以及它们的组合 组成的组。
14.根据权利要求1所述的浆料前体组合物,进一步包括表面活性 剂。
15.根据权利要求14所述的浆料前体组合物,其中,所述表面活 性剂为两性表面活性剂或非离子型表面活性剂。
16.根据权利要求14所述的浆料前体组合物,其中,基于所述液 体载体和溶解或悬浮在其中的任何其它组分的重量,所述表面 活性剂以按重量计0.01%至5%的量存在。
17.根据权利要求1所述的浆料前体组合物,进一步包括杀生物 剂、或消泡剂、或杀生物剂和消泡剂两者。
18.根据权利要求17所述的浆料前体组合物,其中,所述杀生物 剂为异噻唑啉酮,而所述消泡剂为聚二甲基硅氧烷。
19.根据权利要求17所述的浆料前体组合物,其中,基于所述液 体载体和溶解或悬浮在其中的任何其它组分的重量,所述杀生 物剂以1ppm至50ppm的量存在,而所述消泡剂以40ppm 至140ppm的量存在。
20.根据权利要求1所述的浆料前体组合物,其中,所述液体载体 包括去离子水。
21.根据权利要求1所述的浆料前体组合物,其中,所述络合剂选 自羧酸类及其盐类。
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