[发明专利]导电性纳米颗粒墨和糊状物及其应用无效

专利信息
申请号: 200880111122.0 申请日: 2008-10-08
公开(公告)号: CN101842447A 公开(公告)日: 2010-09-22
发明(设计)人: 杨至灏;许之咏;唐则祁 申请(专利权)人: 美商纳麦斯科技公司
主分类号: C09D11/00 分类号: C09D11/00;C09D17/00;C09D5/24;H01B1/16;H01B1/22;B22F9/24
代理公司: 隆天国际知识产权代理有限公司 72003 代理人: 吴小瑛;吕俊清
地址: 美国*** 国省代码: 美国;US
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 导电性 纳米 颗粒 糊状 及其 应用
【权利要求书】:

1.一种方法,其包括:

(a)提供包括至少一纳米颗粒前体和至少一用于该纳米颗粒前体的第一溶剂的第一混合物,其中该纳米颗粒前体包括包含阳离子的盐,该阳离子包括金属阳离子;

(b)提供包括至少一与该纳米颗粒前体反应的反应性部分和至少用于该反应性部分的第二溶剂的第二混合物,其中该第二溶剂在其与该第一溶剂混合时发生相分离;和

(c)在表面稳定剂的存在下合并该第一混合物和第二混合物,其中在合并时,该第一混合物和第二混合物发生相分离,形成纳米颗粒;

(d)将该纳米颗粒配制成墨或糊状物;

(e)在硅基材上使用该墨或糊状物形成薄膜。

2.如权利要求1所述的方法,其中所述第一溶剂包括有机溶剂,所述第二溶剂包括水。

3.如权利要求1所述的方法,其中所述第一溶剂包括烃溶剂,所述第二溶剂包括水。

4.如权利要求1所述的方法,其中所述纳米颗粒包括银。

5.如权利要求1所述的方法,其中所述反应性部分包括还原剂。

6.如权利要求1所述的方法,其中所述第二添加性纳米颗粒降低步骤(e)后半导体材料和第一导电纳米颗粒之间的接触电阻。

7.如权利要求1所述的方法,其中所述反应性部分包括羟基产生剂。

8.如权利要求1所述的方法,其中所述表面稳定剂、第一溶剂和第二溶剂经调适使在该第一溶剂和第二溶剂发生相分离并且形成界面时,该表面稳定剂迁移至该界面。

9.如权利要求1所述的方法,其中所述表面稳定剂包括至少一亚烷基和氮原子或氧原子。

10.如权利要求1所述的方法,其中所述表面稳定剂包括至少取代胺或取代羧酸,其中所述取代基包括二至三十个碳原子。

11.一种装置,其包括:

配置在半导体材料上的墨或糊状物;

其中所述墨或糊状物包括第一导电性纳米颗粒,且进一步包括不同于第一纳米颗粒的第二添加性纳米颗粒。

12.如权利要求11所述的装置,其中所述第一导电性纳米颗粒由权利要求1步骤(a)至(d)的方法制造。

13.如权利要求11所述的装置,其中所述第二添加性纳米颗粒根据权利要求1中的步骤(a)至(d)制造。

14.如权利要求11所述的装置,其中所述导电性和添加性的颗粒是无机物。

15.如权利要求11所述的装置,其中所述导电性纳米颗粒是银。

16.如权利要求11所述的装置,其中所述导电性纳米颗粒的颗粒尺寸小于约1微米。

17.如权利要求11所述的装置,其中所述导电性纳米颗粒的颗粒尺寸是约1nm至约100nm。

18.如权利要求11所述的装置,其中所述导电性纳米颗粒的颗粒尺寸是约1nm至约20nm。

19.如权利要求11所述的装置,其中所述添加性纳米颗粒是钯。

20.如权利要求11所述的装置,其中所述添加性纳米颗粒的颗粒尺寸小于约1微米。

21.如权利要求11所述的装置,其中所述材料是单晶硅、多晶硅、纳米晶体硅或非晶硅。

22.如权利要求11所述的装置,其中所述第一纳米颗粒和第二纳米颗粒通过喷墨印刷、凹版印刷、胶版印刷或丝网印刷处理。

23.如权利要求11所述的装置,其中所述第一纳米颗粒和第二纳米颗粒在低于约500℃的温度下处理。

24.如权利要求11所述的装置,其中所述第一纳米颗粒和第二纳米颗粒在低于约300℃的温度下处理。

25.如权利要求11所述的装置,其中所述第一纳米颗粒是银、金或铜纳米颗粒,或其组合。

26.如权利要求11所述的装置,其中所述第二纳米颗粒是钯、镍、钛或铝纳米颗粒,或其组合。

27.如权利要求11所述的装置,其中所述装置是光伏装置。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于美商纳麦斯科技公司,未经美商纳麦斯科技公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200880111122.0/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top