[发明专利]无铅导电组合物以及用于制造半导体装置的方法:焊剂材料无效

专利信息
申请号: 200880112323.2 申请日: 2008-10-20
公开(公告)号: CN101821816A 公开(公告)日: 2010-09-01
发明(设计)人: A·F·卡罗尔;K·W·杭 申请(专利权)人: E.I.内穆尔杜邦公司
主分类号: H01B1/16 分类号: H01B1/16;H01B1/22;C03C8/18;C03C17/00;C03C17/06
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人: 郭辉
地址: 美国特*** 国省代码: 美国;US
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摘要:
搜索关键词: 导电 组合 以及 用于 制造 半导体 装置 方法 焊剂 材料
【权利要求书】:

1.导电组合物,所述导电组合物包含:

a)导电银;

b)一种或多种焊剂材料,其中所述焊剂材料为无铅的;分散于

c)有机载体。

2.权利要求1的组合物,其中所述组合物包含按所述导电组合物的重量计0.5-13重量%的焊剂材料。

3.权利要求2的组合物,其中所述组合物包含按所述导电组合物的重量计1.5-5重量%的焊剂材料。

4.权利要求1的组合物,其中所述焊剂材料包括选自下列的一种或多种组分:ZnF2、AgBi(PO3)4、AgZnF3-AgF、LiZn(PO3)3、和Cu3B2O6

5.权利要求1的组合物,所述组合物还包含一种或多种含锌添加剂。

6.权利要求1的组合物,所述组合物还包含一种或多种玻璃料。

7.权利要求6的组合物,其中所述一种或多种玻璃料为所述总组合物的0-1重量%。

8.结构,所述结构包括:

(a)厚膜组合物,所述厚膜组合物包含:

a)导电银;

b)一种或多种焊剂材料,其中所述焊剂材料为无铅的;分散于

c)有机介质;

(b)一个或多个绝缘膜;

其中所述厚膜组合物在所述一个或多个绝缘膜上形成,并且其中,在焙烧时,所述有机介质被移除。

9.权利要求8的结构,其中所述一个或多个绝缘膜被所述组合物的组分穿透。

10.权利要求8的结构,所述结构还包括一个或多个半导体基板。

11.权利要求10的结构,其中所述结构为太阳能电池。

12.权利要求8的结构,其中所述绝缘膜包括选自下列的一种或多种组分:氧化钛、氮化硅、SiNx:H、氧化硅、以及氧化硅/氧化钛。

13.制造半导体装置的方法,所述方法包括以下步骤:

(a)提供一个或多个半导体基板、一个或多个绝缘膜、以及厚膜组合物,其中所述厚膜组合物包含:a)导电银,b)一种或多种焊剂材料,其中所述焊剂材料为无铅的,分散于c)有机介质中,

(b)将所述绝缘膜施加在所述半导体基板上,

(c)将所述厚膜组合物施加在所述半导体基板上的绝缘膜上,以及

(d)焙烧所述半导体、绝缘膜和厚膜组合物,

其中,在焙烧时,所述有机载体被移除,所述银和焊剂材料被烧结。

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