[发明专利]成像光学系统和具有该类型的成像光学系统的微光刻投射曝光设备

权利要求书

1.成像光学系统(7)，包括多个镜(M1至M8；M1至M6)，其将物平面(5)中的物场(4)成像到像平面(9)中的像场(8)，镜(M6、M7、M8；M4、M5、M6)的至少一个包括供成像光(15)经过的通孔(21)，

其特征在于所述成像光学系统(7)包括至少六个镜(M1至M8；M1至M6)，在像场(8)之前的在物场(4)和像场(8)之间的光路中第四最后镜(M5；M3)不包括通孔，且利用围绕所述第四最后镜(M5；M3)的光学有效表面的外边缘(22)提供成像光学系统(7)的光瞳平面(17；25，26)中的中心遮蔽。

2.如权利要求1所述的成像光学系统，其特征在于，所述第四最后镜(M5；M3)为凸镜。

3.如权利要求1或2所述的成像光学系统，其特征在于，所述第四最后镜(M5；M3)位于所述光学成像系统(7)的光轴(19)上。

4.如权利要求1-3的任一所述的成像光学系统，其特征在于，所述第四最后镜(M3)设置于所述光学成像系统(7)的光瞳平面(26)的区域中。

5.成像光学系统(7)，包括多个镜(M1至M8；M1至M6)，其将物平面(5)中的物场(4)成像到像平面(9)中的像场(8)，镜(M6、M7、M8；M4、M5、M6)的至少一个包括供成像光(15)经过的通孔(21)，

其特征在于所述成像光学系统(7)包括至少八个镜(M1至M8；M1至M6)，在物场(4)和像场(8)之间的光路中第四最后镜(M5；M3)和所述光路中的最后镜(M8；M6)之间的距离为物场(4)和像场(8)之间的距离的至少10％。

6.成像光学系统(7)，包括多个镜(M1至M8；M1至M6)，其将物平面(5)中的物场(4)成像到像平面(9)中的像场(8)，镜(M6、M7、M8；M4、M5、M6)的至少一个包括供成像光(15)经过的通孔(21)，

其特征在于所述成像光学系统(7)包括至少六个镜(M1至M8；M1至M6)，在物场(4)和像场(8)之间的光路中第四最后镜(M5；M3)和所述光路中的最后镜(M8；M6)之间的距离为物场(4)和像场(8)之间的距离的至少10％。

7.成像光学系统(7)，包括多个镜(M1至M8；M1至M6)，其将物平面(5)中的物场(4)成像到像平面(9)中的像场(8)，镜(M6、M7、M8；M4、M5、M6)的至少三个包括供成像光(15)经过的通孔(21)，

至少一个中间像平面(20、23；27)存在于所述物平面(5)和像平面(9)之间，

其特征在于最接近像平面(9)的中间像平面(23；27)在物场(4)和像场(8)之间的光路中空间上设置于最后镜(M8；M6)和像平面(9)之间。

8.如权利要求7所述的成像光学系统(7)，其特征在于，距所述像平面(9)的中间像平面(23；27)的距离至多是所述光路中的最后镜(M8；M6)距所述像平面(9)的距离的0.95倍。

9.如权利要求1到8的任一所述的成像光学系统(7)，其特征在于数值孔径至少0.4、优选至少0.5、甚至更优选至少0.6、甚至更优选至少0.9。

10.成像反射光学系统(7)，包括少于十个镜(M1至M8)，其将物平面(5)中的物场(4)成像到像平面(9)中的像场(8)，

其特征在于数值孔径≥0.7。

11.根据权利要求10的成像光学系统(7)，包括精确的八个镜(M1至M8)且具有0.9的数值孔径。

12.根据权利要求1至11的至少之一的成像光学系统(7)。

13.根据权利要求1至12的任一的成像光学系统，其特征在于波前误差的最大均方根(rms)小于10nm，优选小于5nm，甚至更优选小于2nm，甚至更优选小于1nm，甚至更优选小于0.5nm。

14.根据权利要求1至13的任一的成像光学系统，其特征在于最大变形小于10nm，优选小于5nm，甚至更优选小于2nm，甚至更优选小于1nm，甚至更优选小于0.5nm。

15.根据权利要求1至14的任一的成像光学系统，其特征在于光瞳遮拦小于20％，优选小于15％，甚至更优选小于10％。