[发明专利]用于不均匀性聚焦的装置

权利要求书

1.一种物质沉积组件，所述物质沉积组件包括：

第一盖板和第二盖板，所述盖板中的一个或两个包括用于含物质的气溶胶的入口和一个或多个包覆气体入口；和

在所述盖板之间密封的插入件，所述插入件包括至少一个与所述气溶胶入口和不均匀的喷嘴流体连接的气溶胶通道；

其中所述一个或多个包覆气体入口与包覆体喷混室流体连接，所述包覆体喷混室包封所述至少一个气溶胶通道的出口和所述喷嘴的进口。

2.根据权利要求1所述的沉积组件，其中所述插入件包含两个镜像板，所述镜像板在组装到一起时形成所述气溶胶通道和所述喷嘴。

3.根据权利要求1所述的沉积组件，其中所述包覆气体将所述包覆体喷混室和所述喷嘴中的所述气溶胶包围和聚焦。

4.根据权利要求1所述的沉积组件，其中所述喷嘴为矩形。

5.根据权利要求4所述的沉积组件，其中所述气溶胶通道为矩形，并且与所述矩形喷嘴对齐。

6.根据权利要求1所述的沉积组件，其中所述喷嘴在物质沉积过程中相对于基底是可移动的。

7.根据权利要求6所述的沉积组件，其中所述喷嘴相对于所述喷嘴和所述基底的相对移动方向是可倾斜的。

8.根据权利要求1所述的沉积组件，所述沉积组件还包括连接所述一个或多个包覆气体入口和所述包覆体喷混室的通道，构造所述通道使得所述包覆气体进入所述包覆体喷混室，从而在基本上平行于所述气溶胶在所述气溶胶通道中的流动方向的方向上移动。

9.根据权利要求1所述的沉积组件，其中所述插入件包括尖端垫片，所述尖端垫片包括气溶胶通道。

10.根据权利要求9所述的沉积组件，其中所述尖端垫片是可变形的。

11.根据权利要求10所述的沉积组件，其中所述尖端垫片的变形改变所述气溶胶通道的尖端的宽度。

12.根据权利要求1所述的沉积组件，其中所述至少一个气溶胶通道的至少一部分被再分隔成多个更小的次通道。

13.根据权利要求12所述的沉积组件，其中所述次通道轴向对齐并且排列成两排，第一排中的所述次通道偏移第二排中的所述次通道。

14.根据权利要求13所述的沉积组件，其中所述第一排中的所述次通道相对于所述第二排中的所述次通道形成角度。

15.根据权利要求14所述的沉积组件，其中在相邻次通道中的各个气溶胶流在离开所述气溶胶通道时交叉。

16.根据权利要求1所述的沉积组件，其中所述至少一个气溶胶通道的至少一部分包括交替偏置间隔体。

17.根据权利要求1所述的沉积组件，其中所述包覆体喷混室是不均匀性的。