[发明专利]降低鞋类产品在使用过程中随时间的水渗透的方法

权利要求书

1.用于处理在使用中受到弯折的鞋类产品或鞋类产品的构造鞋面以降低其在使用过程中随时间对水渗透的易受性的方法，所述方法包括在该鞋类产品或构造鞋面的表面上形成防水涂层或表面改性。

2.权利要求1的方法，其中该防水涂层或表面改性是由电离或活化技术形成的。

3.权利要求1或2的方法，其中该鞋类产品或构造鞋面进一步包括鞋带。

4.权利要求1～3中任意一项的方法，其中该鞋类产品或构造鞋面是运动鞋或运动鞋的构造鞋面。

5.前述任意权利要求的方法，其中该电离或活化技术是等离子体处理。

6.权利要求4的方法，其中该等离子体处理使用等离子体，该等离子体包括经过等离子体聚合以形成防水聚合物的单体化合物，和该鞋类产品或构造鞋面暴露足够的时间段以使在其表面上形成聚合物层。

7.权利要求5或6的方法，其中该鞋类产品或构造鞋面暴露于等离子体沉积腔室中的脉冲等离子体。

8.权利要求6或7的方法，其中该单体化合物是式(I)的化合物：

其中，R¹、R²和R³独立地选自氢、烷基、卤代烷基或任选被卤素取代的芳基；和R⁴是X-R⁵基团，其中R⁵是烷基或卤代烷基，和X是键；式-C(O)O-、-C(O)O(CH₂)_nY-的基团，其中n是1～10的整数，和Y是键或磺酰胺基团；或-(O)_pR⁶(O)_q(CH₂)_t-的基团，其中R⁶是任选被卤素取代的芳基，p是0或1，q是0或1，t是0或1～10的整数，前提条件是当q是1时，t不为0，以足够的时间段来在该产品的表面上产生聚合物保护层。

9.权利要求8的方法，其中该式(I)的化合物是式(II)的化合物：

                CH₂＝CH-R⁵        (II)

其中R⁵是如权利要求8所定义的或式(III)的化合物：

            CH₂＝CR⁷C(O)O(CH₂)_nR⁵    (III)

其中n和R⁵是如权利要求8所定义的，和R⁷是氢、C_1-10烷基或C_1-10卤代烷基。

10.权利要求9的方法，其中该式(III)的化合物是式(IV)的化合物：

其中R⁷是如权利要求8所定义的，和x是1～9的整数。

11.权利要求8的方法，其中该式(IV)的化合物是1H，1H，2H，2H-十七氟癸基丙烯酸酯。

12.前述任意一项权利要求的方法，其中将该待处理的鞋类产品或构造鞋面与一种或多种单体一起放置在等离子体腔室内，该单体能够产生基本上为气态的目标聚合物质，在该腔室内激发辉光放电并施加适合的脉冲电压。

13.权利要求12的方法，其中以如下顺序施加脉冲，其中接通时间：断开时间的比率是在1∶500～1∶1500范围内。

14.等离子体聚合沉积方法用于降低鞋类产品或鞋类产品的构造鞋面在使用过程中随时间对水渗透的易受性的用途。

15.经过等离子体聚合以形成防水聚合物的单体化合物用于降低鞋类产品或鞋类产品的构造鞋面在使用过程中随时间对水渗透的易受性的用途。

16.经过权利要求1～13中任一项的方法处理的鞋或构造鞋面。