[发明专利]校正颜色的折反射物镜和包括其的投射曝光设备有效
申请号: | 200880114710.X | 申请日: | 2008-09-01 |
公开(公告)号: | CN101849205A | 公开(公告)日: | 2010-09-29 |
发明(设计)人: | 亚历山大·埃普尔 | 申请(专利权)人: | 卡尔蔡司SMT股份公司 |
主分类号: | G02B17/08 | 分类号: | G02B17/08;G03B27/00;G03F7/20 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 邱军 |
地址: | 德国*** | 国省代码: | 德国;DE |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 校正 颜色 反射 物镜 包括 投射 曝光 设备 | ||
1.一种折反射物镜,包括:
沿光轴布置的多个光学元件,以在像方数值孔径NA,利用来自中心波长λ附近的波带的电磁辐射,将来自物镜的物面中的物场的图案成像到物镜的像面区域中的像场,所述光学元件包括:
一凹镜;和
多个透镜,包括由具有定义中间阿贝数的不同阿贝数的不同材料制成的透镜,其中所述多个透镜中的至少一个是由具有等于或大于中间阿贝数的第一阿贝数的第一材料制成的第一透镜,以及所述多个透镜中的至少一个是由具有小于中间阿贝数的阿贝数的第二材料制成,以使所述投射物镜在对于波带的各个波长λ的各自的匹兹伐表面中形成图案的像,对于不同波长,所述匹兹伐表面彼此偏离;
其中在给定波长、在像场的边缘场点(最大像高y’)处、在像面区域中平行于光轴测量的、匹兹伐表面从平面基准面的纵向偏离p根据dp/dλ<(0.2λ/NA2)/nm随波长λ变化。
2.如权利要求1所述的物镜,其中,全部透镜中多于50%的透镜是由第一材料制成而少于50%的透镜是由第二材料制成。
3.如权利要求1或2所述的物镜,其中,全部透镜中少于30%的透镜是由第二材料制成。
4.如权利要求1所述的物镜,其中,全部透镜中多于50%的透镜是由第二材料制成而少于50%的透镜是由第一材料制成。
5.如前述权利要求的任一所述的物镜,其中,由第二材料制成的至少一个第二透镜是负透镜。
6.如权利要去5所述的物镜,其中,所述负透镜是双凹负透镜。
7.如权利要求5或6所述的物镜,其中,所述负透镜的光学自由直径基本小于直接相邻该负透镜的至少一个透镜的光学自由直径。
8.如权利要求5、6或7所述的物镜,其中,所述负透镜的光学自由直径小于物镜的最大透镜的光学自由直径的80%。
9.如权利要求8所述的物镜,其中,所述负透镜的光学自由直径小于物镜的最大透镜的光学自由直径的50%。
10.如权利要求5至9的任一所述的物镜,其中,所述负透镜布置在两个相邻透镜之间,所述两个相邻透镜中的每一个都具有基本大于所述负透镜的光学自由直径的光学自由直径。
11.如权利要求5至10的任一所述的物镜,其中,所述物镜包括至少一个腰区域,在该腰区域中,经过所述物镜的辐射光束的光束直径有局部最小值,并且其中所述负透镜布置在该腰区域中。
12.如权利要求5至10的任一所述的物镜,其中,所述负透镜布置在所述物镜的场表面附近。
13.如权利要求12所述的物镜,其中,所述场表面是所述物面。
14.如权利要求12所述的物镜,其中,所述场表面是所述像面。
15.如权利要求12所述的物镜,其中,所述物镜具有至少一个中间像并且所述负透镜布置在该中间像附近。
16.如前述权利要求的任一所述的物镜,其中,所述物镜包括由第二材料的至少两个负透镜。
17.如前述权利要求的任一所述的物镜,其中,全部透镜中多于50%的透镜由熔融石英(SiO2)制成。
18.如前述权利要求的任一所述的物镜,其中,所述第一材料是熔融石英(SiO2)。
19.如前述权利要求的任一所述的物镜,其中,所述多个透镜包括由具有三个基本不同阿贝数的至少三种不同材料制成的透镜。
20.如前述权利要求的任一所述的物镜,其中,所述多个透镜包括由具有四个基本不同阿贝数的至少四种不同材料制成的透镜。
21.如前述权利要求的任一所述的物镜,其中,所述多个透镜包括由具有五个基本不同阿贝数的至少五种不同材料制成的透镜。
22.如前述权利要求的任一所述的物镜,其中,所述多个透镜包括由具有至少两个不同阿贝数的至少两种不同材料制成的透镜,其中至少一种材料不是氟化钙并且不是熔融石英(SiO2)。
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