[发明专利]涂层体系无效

专利信息
申请号: 200880115236.2 申请日: 2008-10-07
公开(公告)号: CN102203320A 公开(公告)日: 2011-09-28
发明(设计)人: D·B·阿伦;E·舒曼;R·苏布拉马尼安 申请(专利权)人: 西门子公司
主分类号: C23C28/00 分类号: C23C28/00;C23C30/00
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 石克虎;林森
地址: 德国*** 国省代码: 德国;DE
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摘要:
搜索关键词: 涂层 体系
【权利要求书】:

1.涂层体系(2,120,130),其包括基材(1),在该基材(1)上的多孔陶瓷层(3)和在该多孔陶瓷层(3)上的可磨损陶瓷层(4)。

2.权利要求1的涂层体系,其中所述多孔陶瓷层(3)具有≥20体积%和≤30体积%的孔隙率,优选≥22体积%和≤28体积%,和更优选≥24体积%和≤26体积%。

3.权利要求1的涂层体系,其中所述多孔陶瓷层(3)含ZrO2,其优选由Yb2O3和/或Y2O3稳定化,和更优选由用Yb2O3和/或Y2O3稳定化的ZrO2构成。

4.权利要求3的涂层体系,其中所述多孔陶瓷层(3)的ZrO2仅由Y2O3稳定化。

5.权利要求3或4的涂层体系,其中所述多孔陶瓷层(3)的ZrO2由6wt%至10wt%的Y2O3稳定化,优选由8wt%的Y2O3稳定化。

6.前述权利要求之一的涂层体系,其中所述多孔层(3)为150μm-300μm厚,优选180μm-250μm,更优选190μm-240μm和最优选225μm。

7.前述权利要求之一的涂层体系,其中所述可磨损陶瓷层(4)具有≥20体积%和≤42体积%的孔隙率,优选≥25体积%和≤40体积%和更优选≥27体积%和≤35体积%,和最优选32体积%。

8.前述权利要求之一的涂层体系,其中所述可磨损陶瓷层(4)包含ZrO2,其优选由Yb2O3和/或Y2O3稳定化,和更优选由用Yb2O3和/或Y2O3稳定化的ZrO2构成。

9.权利要求8的涂层体系,其中所述可磨损陶瓷层(4)的ZrO2仅由Yb2O3稳定化。

10.权利要求8或9的涂层体系,其中所述可磨损陶瓷层(4)包含至少30wt%的Yb2O3,优选最多40wt%的Yb2O3,最优选33wt%的Yb2O3

11.前述权利要求之一的涂层体系,其中所述可磨损陶瓷层(4)为300μm-800μm厚,优选350μm-700μm,更优选400μm-600μm和最优选500μm。

12.前述权利要求之一的涂层体系,其由基材(1)、多孔陶瓷层(3)和可磨损陶瓷层(4)和任选的在该基材(4)上的粘合涂层(5)和/或在该粘合涂层(5)上的TGO组成。

13.前述权利要求1-11之一的涂层体系,其包括在所述多孔陶瓷层(3)之下的陶瓷层(6)。

14.权利要求13的涂层体系,其中所述陶瓷层(6)具有比所述多孔陶瓷层(3)更低的孔隙率,优选6体积-17体积%,更优选8体积%-15体积%的孔隙率。

15.权利要求13或14的涂层体系,其中所述陶瓷层(6)包含ZrO2,该陶瓷层优选由Yb2O3和/或Y2O3稳定化,和更优选由用Yb2O3和/或Y2O3稳定化的ZrO2构成。

16.权利要求15的涂层体系,其中所述陶瓷层(6)的ZrO2仅由Y2O3稳定化。

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