[发明专利]成像光学系统以及距离测定装置有效
申请号: | 200880115284.1 | 申请日: | 2008-11-07 |
公开(公告)号: | CN101855585A | 公开(公告)日: | 2010-10-06 |
发明(设计)人: | 坂上典久;藤冈孝弘;幡手公英 | 申请(专利权)人: | 纳卢克斯株式会社 |
主分类号: | G02B17/00 | 分类号: | G02B17/00;G02B17/08 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人: | 黄纶伟 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 成像 光学系统 以及 距离 测定 装置 | ||
1.一种具有3个反射镜的成像光学系统,其中,
该成像光学系统构成为:在以视场中心的光轴为Z轴的XYZ正交坐标系中,在XZ剖面中保持光轴的方向的同时,在YZ剖面中改变光轴的方向,入射到第2反射面的光路与从第3反射面射出的光路交叉,视场中心的光轴与像面的光轴平行,
3个反射面中的至少1个为旋转非对称面,
顺着沿视场中心的光轴的光线的光路,设第2反射面与第3反射面之间的距离为L2、第3反射面与像面之间的距离为L3、该成像光学系统的等效F数为Fno,则该成像光学系统满足以下关系式:
0.5<Fno(L2/L3)<1.3。
2.根据权利要求1所述的成像光学系统,其中,
第1反射面为凸面,设第1反射面在XZ剖面中的焦距为fx1、第1反射面在YZ剖面中的焦距为fy1,则该成像光学系统还满足以下关系式:
0<fx1/L3<5
0<fy1/L3<10。
3.根据权利要求1所述的成像光学系统,其中,
第1反射面为凸面,设所述窗板与第1反射面在XZ剖面中的合成焦距为fx1’、所述窗板与第1反射面在YZ剖面中的合成焦距为fy1’,则该成像光学系统还满足以下关系式:
0<fx1’/L3<5
0<fy1’/L3<10。
4.根据权利要求1至3中任意一项所述的成像光学系统,其中,
顺着沿视场中心的光轴的光线的光路,设第1反射面与第2反射面之间的距离为L1、第1反射面与像面之间的距离为L,则该成像光学系统还满足以下关系式:
0.35<L1/L<0.5。
5.根据权利要求1至4中任意一项所述的成像光学系统,其中,
所述第2反射面为旋转对称的非球面。
6.根据权利要求5所述的成像光学系统,其中,
使所述旋转对称的非球面的中心相对于沿视场中心的光轴的光线的光路与所述第2反射面之间的交点进行变位,以减小所述成像光学系统的像差。
7.根据权利要求1至6中任意一项所述的成像光学系统,其中,
在所述第1反射面与所述第2反射面之间具有光圈。
8.根据权利要求7所述的成像光学系统,其中,
所述光圈的形状为矩形。
9.根据权利要求1至8中任意一项所述的成像光学系统,其中,
该成像光学系统是不进行中间成像的非中继光学系统。
10.根据权利要求1至9中任意一项所述的成像光学系统,其中,
视场中心的光轴与像面的光轴为不同方向。
11.根据权利要求1至9中任意一项所述的成像光学系统,其中,
视场中心的光轴与像面的光轴为相同方向。
12.根据权利要求1至11中任意一项所述的成像光学系统,其中,
在第1反射镜与第2反射镜之间具有遮光板。
13.根据权利要求1至12中任意一项所述的成像光学系统,其中,
反射镜由进行了金属涂覆的塑料构成。
14.根据权利要求1至13中任意一项所述的成像光学系统,其中,
该成像光学系统用于红外线。
15.根据权利要求1至13中任意一项所述的成像光学系统,其中,
该成像光学系统用于毫米波或太赫兹波。
16.根据权利要求1至15中任意一项所述的成像光学系统,其中,
该成像光学系统构成为,能够使所述第2反射面在Z轴方向上移动来进行调整。
17.一种距离测定装置,其中,
该距离测定装置构成为,使权利要求1至16中任意一项所述的成像光学系统绕入射到像面的光轴旋转180度。
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