[发明专利]透光性基板、其制造方法、有机LED元件及其制造方法

权利要求书

1.一种透光性基板，其特征在于，包含：

透光性的玻璃基板，

在所述玻璃基板上形成的包含玻璃的散射层，所述散射层包含对于透射光的至少一个波长具有第一折射率的基材、和分散在所述基材中并且具有与所述基材不同的第二折射率的许多散射物质，和

在所述散射层上形成的、具有高于所述第一折射率的第三折射率的透光性电极，并且，

所述散射物质在所述散射层内的分布在所述散射层的所述透光性电极侧表面附近朝向所述透光性电极减少。

2.如权利要求1所述的透光性基板，其特征在于，

离所述散射层的表面的距离为x(x≤0.2μm)处的散射物质的密度ρ₃相对于距离x＝2μm处的所述散射物质的密度ρ₄满足ρ₄＞ρ₃。

3.如权利要求1或2所述的透光性基板，其特征在于，

所述散射层的所述散射物质的分布具有面内均匀性。

4.如权利要求3所述的透光性基板，其特征在于，

所述第一折射率与所述第三折射率之差为0.2以下。

5.如权利要求1至4中任一项所述的透光性基板，其特征在于，

所述散射层的表面形成构成弯曲面的波状起伏。

6.如权利要求5所述的透光性基板，其特征在于，

所述散射层的所述表面的波状起伏的粗糙度Ra与所述表面的波状起伏的波长Rλa的比Ra/Rλa为1.0×10-^3以上、3.0×10^-2以下。

7.如权利要求1至6中任一项所述的透光性基板，其特征在于，

所述散射层表面的表面粗糙度Ra为30nm以下。

8.如权利要求1至7中任一项所述的透光性基板，其特征在于，

所述散射层中所述散射物质的含量为至少1体积％。

9.如权利要求1至8中任一项所述的透光性基板，其特征在于，

所述散射物质是气泡。

10.如权利要求1至9中任一项所述的透光性基板，其特征在于，

所述散射物质是构成所述基层的玻璃的析出结晶。

11.如权利要求1至10中任一项所述的透光性基板，其特征在于，

每1mm²所述散射层中所述散射物质的数量为至少1×10⁴个。

12.如权利要求1至11中任一项所述的透光性基板，其特征在于，

所述散射层包含20～30摩尔％的P₂O₅、3～14摩尔％的B₂O₃、总量为10～20摩尔％的Li₂O、Na₂O和K₂O、10～20摩尔％的Bi₂O₃、3～15摩尔％的TiO₂、10～20摩尔％的Nb₂O₅和5～15摩尔％的WO₃。

13.一种透光性基板的制造方法，其特征在于，包含：

准备透光性玻璃基板的工序，

在所述玻璃基板上形成散射层的工序，所述散射层包含对于透射光的至少一个波长具有第一折射率的基材、和分散在所述基材中并且具有与所述基材不同的第二折射率的许多散射物质，和

在所述散射层上形成具有高于所述第一折射率的第三折射率的透光性电极的工序，并且，

所述形成散射层的工序包含：

在所述玻璃基板上涂布包含玻璃粉末的涂布材料的工序，和

对所述涂布的玻璃粉末进行焙烧的工序。

14.如权利要求13所述的透光性基板的制造方法，其特征在于，在所述焙烧工序中，在比所述涂布的玻璃材料的玻璃化转变温度高40～60℃的温度下进行焙烧。

15.如权利要求13或14所述的透光性基板的制造方法，其特征在于，在所述涂布工序中，涂布粒径的D₁₀为0.2μm以上且D₉₀为5μm以下的玻璃粉末。