[发明专利]水性涂层剂以及制备耐石片划伤性层的方法

权利要求书

1.水性涂层剂，其含有至少一种具有至少一个可交联的官能团(a)的可水分散的聚合物(WP)，以及带正电荷的无机粒子(AT)，所述无机粒子的中值粒径(D)与中值粒子厚度(d)之比D/d＞50，其特征在于，所述电荷至少部分地被带单电荷的有机阴离子(OA)所平衡。

2.如权利要求1所述的水性涂层剂，其特征在于，所述水性涂层剂含有至少一种具有至少两个官能团(b)的交联剂(V)，在所述涂层剂固化时，所述官能团(b)与所述可水分散的聚合物(WP)的官能团(a)反应形成共价键。

3.如权利要求1或2所述的水性涂层剂，其特征在于，所述带单电荷的有机阴离子(OA)具有阴离子基团(AG)和/或至少一个官能团(c)，在所述涂层剂固化时，所述官能团(c)与所述官能团(a)和/或(b)反应形成共价键。

4.如权利要求3所述的水性涂层剂，其特征在于，所述官能团(c)是羟基、环氧基和/或氨基。

5.如权利要求3或4所述的水性涂层剂，其特征在于，所述带单电荷的有机阴离子(OA)具有位于阴离子基团(AG)和官能团(c)之间的间隔基(SP)，其中(SP)选自如下组：总共具有3～30个的碳原子的任选地用杂原子，如氮、氧和/或硫改性的且任选地取代的脂肪族和/或脂环族基团；总共具有3～20个的碳原子的任选地用杂原子，如氮、氧和/或硫改性的并且任选地取代的芳基；和/或上述脂环族或芳族基团的亚结构，其中在所述亚结构中至少3个碳原子和/或杂原子位于所述官能团(c)和所述阴离子基团(AG)之间。

6.如权利要求3～5中任一项所述的水性涂层剂，其特征在于，所述阴离子基团(AG)选自如下单价阴离子的组：羧酸根、磺酸根和/或膦酸根。

7.如权利要求1～6中任一项所述的水性涂层剂，其特征在于，所述无机粒子(AT)含有至少一种下述通式的混合氢氧化物：

(M_(1-x)²⁺M_x³⁺(OH)₂)(A_x/y^y-)·nH₂O

其中，M²⁺表示二价阳离子，M³⁺表示三价阳离子，(A)表示具有化合价y的阴离子，其中阴离子(A)的至少一部分被带单电荷的有机阴离子(OA)所代替。

8.如权利要求7所述的水性涂层剂，其特征在于，作为二价阳离子M²⁺选择钙、锌和/或镁离子，和/或作为三价阳离子M³⁺选择铝离子，和/或作为阴离子(A)使用氯离子、磷酸根离子、硫酸根离子和/或碳酸根离子。

9.制备耐石片划伤性OEM层复合体的方法，所述OEM层复合体是由直接施加在基材上的防腐蚀层、二道底漆层、底漆层、以及最终的透明漆层所组成的，其特征在于，至少一个层由权利要求1～8中任一项所述的水性涂层剂所形成。

10.如权利要求9所述的方法，其特征在于，所述二道底漆层由权利要求1～8中任一项所述的水性涂层剂形成。