[发明专利]湿法研磨含有聚羧酸盐的石膏无效
申请号: | 200880115986.X | 申请日: | 2008-10-24 |
公开(公告)号: | CN101868430A | 公开(公告)日: | 2010-10-20 |
发明(设计)人: | 沙伦·路易斯·特雷西;戴维·B·麦克唐纳;刘庆夏 | 申请(专利权)人: | 美国石膏公司 |
主分类号: | C04B11/00 | 分类号: | C04B11/00 |
代理公司: | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人: | 徐金国;黄韧敏 |
地址: | 美国伊*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 湿法 研磨 含有 羧酸 石膏 | ||
1.一种制备精细研磨的石膏产品的方法,包括:
获得具有初始中值粒径的进料物质;
在水中形成聚羧酸盐分散剂的溶液;
将所述进料物质添加到所述溶液中以形成浆体;和
湿法研磨所述浆体以减小所述进料物质的中值粒径。
2.如权利要求1所述的方法,其中所述形成步骤进一步包括将聚羧酸盐粉末分散在水中,并使该溶液老化至少12小时。
3.如权利要求2所述的方法,其中所述老化步骤为至少24小时。
4.如权利要求1所述的方法,其中所述聚羧酸盐分散剂包括至少3个重复单元,所述重复单元包括丙烯酸单元、马来酸重复单元和长链聚醚重复单元。
5.如权利要求1所述的方法,其中所述研磨持续进行直到所述中值粒径为约1微米至约3微米。
6.如权利要求1所述的方法,其中所述添加步骤使用基于所述进料物质重量的约0.1%至约5%的干聚羧酸分散剂。
7.如权利要求1所述的方法,其中所述进料物质包括石膏粉、碳酸钙、硫酸钙无水石膏及其结合中的一种。
8.如权利要求1所述的方法,其中所述研磨在球磨机中进行。
9.如权利要求1所述的方法,进一步包括在所述研磨过程中重复施予该分散剂。
10.如权利要求9所述的方法,其中所述重复施予步骤是以定期的时间间隔进行。
11.如权利要求9所述的方法,其中所述定期时间间隔是有规律的。
12.如权利要求11所述的方法,其中所述有规律的时间间隔长约5分钟至约15分钟。
13.如权利要求1所述的方法,其中所述添加步骤进一步包括将碳酸钠添加到所述进料物质。
14.如权利要求7所述的方法,其中所述石膏粉是天然开采的石膏。
15.如权利要求1所述的方法,进一步包括选择聚羧酸盐分散剂,该聚羧酸盐分散剂包括至少三个重复单元:丙烯酸单元、马来酸重复单元和长链聚醚重复单元。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于美国石膏公司,未经美国石膏公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
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