[发明专利]微光刻投射曝光设备的照明系统

权利要求书

1.一种微光刻投射曝光设备的照明系统，

其中，在所述投射曝光设备的操作中，照明系统(200、700)对所述投射曝光设备的投射物镜(40)的物面(OP)进行照明；并且

所述照明系统(200、700)被调整成使得在所述照明系统的操作中产生并且仅在所述物面(OP)中重叠的彼此成点对称关系的光分量(10、20)具有相互正交的偏振状态。

2.如权利要求1所述的照明系统，其特征在于，所述具有相互正交的偏振状态的光分量分别通过所述照明系统(200、700)的光瞳面(P)的不同区域。

3.如权利要求2所述的照明系统，其特征在于，所述区域相对于所述光瞳面(P)中的光束横截面的中心位置彼此成点对称关系布置。

4.如权利要求1-3之一所述的照明系统，其特征在于，在所述投射曝光装置的操作中，所述光分量(10、20)在物面(OP)中的结构处衍射之后在所述投射物镜的像面(IP)中相互重叠，以提供有效非偏振的光。

5.如权利要求1-4之一所述的照明系统，其特征在于，所述相互正交的偏振状态是具有相互垂直的优选偏振方向的线偏振状态。

6.如权利要求1-4之一所述的照明系统，其特征在于，所述相互正交的偏振状态是具有彼此相反的手性的圆偏振状态。

7.如前述权利要求之一所述的照明系统，其特征在于，所述照明系统具有产生具有相互正交的偏振状态的偏振影响光学装置(210、300、400、500、600)。

8.如权利要求7所述的照明系统，其特征在于，所述偏振影响光学装置(210、300、400)对于通过该装置的线偏振光分量，在所述光束横截面的第一局部区域上保持偏振状态不改变，而在所述光束横截面的第二局部区域上使得优选偏振方向旋转90°或其奇数倍。

9.如权利要求7或8所述的照明系统，其特征在于，所述偏振影响光学装置(210、300、400)具有至少一个光学旋转器元件，所述至少一个光学旋转器元件在所述投射曝光设备的操作中仅覆盖所述光束横截面的一部分，并且对于从其通过的线偏振光，使得优选偏振方向旋转90°或其奇数倍。

10.如权利要求7所述的照明系统，其特征在于，所述偏振影响光学装置(210、500)将在光束横截面的第一局部区域上从该装置通过的线偏振光分量变换成左旋圆偏振光，将在光束横截面的第二局部区域上从该装置通过的线偏振光分量变换成右旋圆偏振光。

11.如权利要求7所述的照明系统，其特征在于，所述偏振影响光学装置(600)对于从该装置通过的圆偏振光分量，在光束横截面的第一局部区域上保持偏振状态不改变，并在光束横截面的第二局部区域上，反转所述圆偏振光的手性。

12.如权利要求7-11之一所述的照明系统，其特征在于，所述偏振影响光学装置布置在REMA物镜(209、609)中，所述REMA物镜在所述投射曝光设备的操作中，在所述物面中，优选在所述REMA物镜(209、609)的光瞳面中，产生中间场平面的像。

13.一种微光刻投射曝光设备，包括照明系统和投射物镜，其特征在于，所述照明系统设计成如前述权利要求之一所述。

14.一种操作具有照明系统和投射物镜的微光刻投射曝光设备的方法，其中，所述照明系统对所述投射物镜(40)的物面(OP)进行照明，并且其中在所述照明系统中，彼此成点对称关系并具有相互正交的偏振状态的光分量被产生，使得所述光分量仅在所述物面(OP)中重叠。

15.如权利要求14所述的方法，其特征在于，所述光分量在所述物面中的结构衍射之后在所述投射物镜的像面中重叠，以提供有效非偏振的光。

16.如权利要求14或15所述的方法，其特征在于，所述具有相互正交的偏振状态的光分量(10、20)分别通过所述照明系统的光瞳面(P)的不同区域。

17.一种用于微结构部件的微光刻生产的工艺，包括以下步骤：

提供基底，对于该基底至少部分地施加一层光敏材料；

提供具有要被再现的结构的掩模；

提供如权利要求13所述的微光刻投射曝光设备；以及

借助于所述投射曝光设备将所述掩模的至少一部分投射到所述层的区域上。

18.通过如权利要求17所述的工艺生产的微结构部件。