[发明专利]润滑剂和磁盘

说明书

技术领域

本发明涉及润滑剂和使用该润滑剂的磁盘，特别涉及耐分解性优异的润滑剂。

背景技术

随着磁盘装置的记录容量的增大，作为记录介质的磁盘与进行信息的记录、再生的磁头的距离变窄到几乎接触。盘片旋转的高速化也在进行，盘片与磁头接触时的冲击存在不断增大的倾向。

为了缓和接触的冲击，进行碳保护膜的表面粗糙度或强度、润滑膜的膜厚或固定相与流动层的组成比率的优化。特别对于位于盘片最表面的润滑膜，除了接触冲击的缓和以外，还有盘片表面的污染防止、不能向磁头侧移动粘合等的性能要求。因此，除了润滑剂的膜厚或固定层和流动层的组成比率以外，润滑剂的化学结构设计变得重要。

作为润滑剂，一般使用具有官能团的全氟聚醚。作为官能团，有羟基、氨基、羧基、环磷腈基等。作为构成全氟聚醚的主链的单体单元，有CF₂O、CF₂CF₂O、CF(CF₃)CF₂O、CF₂CF₂CF₂O等，全氟聚醚的主链作为它们的均聚物或共聚物而构成。

作为包含主链结构具有CF₂O的化合物的润滑剂，有由式(2)表示的Fomblin ZTETRAOL。该润滑剂通过位于分子两末端的羟基显示对盘片的良好的吸附性，但构成主链的CF₂O部分对路易斯酸的耐久性低，与磁头构件中的Al₂O₃反应，发生主链的断裂(参照例如非专利文献1)。如果发生这种断裂，化合物变为低分子，最终从磁盘上挥发、消失，因此对于伴有磁头与盘片的接触、滑动的体系不能保持润滑剂被膜。

[m、n分别为10～40的实数。]

另一方面，作为包含主链结构仅具有CF₂CF₂CF₂O的化合物的润滑剂，有由式(3)、式(4)表示的润滑剂。这些润滑剂即使与路易斯酸共存也难以分解，通过制成在润滑层中具有它们的磁盘，能改善耐久性(参照例如专利文献1和2)。

HO-CH₂CF₂CF₂O(CF₂CF₂CF₂O)pCF₂CF₂CH₂-OH    (3)

[式中，p为整数，数均分子量为800～5000。]

[式中，q为整数，r为整数1～5，数均分子量为500～4000。]

随着近年来磁头的低上浮化和盘片旋转的高速化，对于位于盘片最表面的润滑剂，要求在防止因飞散、分解等引起的润滑层消失的同时，显示能降低盘片与磁头接触时的摩擦力的流动性，使盘片的耐久性改善。

但是，上述专利文献1～2的化合物(3)、化合物(4)的单独使用时，如后述的试验例1可知，不能使盘片的耐久性改善。

非专利文献1：Marcomolecules，1992年，25卷，第6791-6799页

专利文献1：特开平8-63739

专利文献2：特开平10-149527

本发明的课题在于提供吸附性和流动性两者优异，在高速旋转盘片、低上浮磁头中也能显示优异的耐久性的润滑剂以及使用该润滑剂的磁盘。

发明内容

本发明涉及以下的发明。

1.润滑剂，其特征在于含有：在具有由式(1)表示的主链结构的全氟聚醚的两末端具有极性基团的化合物(A)和在具有由式(1)表示的主链结构的全氟聚醚的至少一个末端具有非极性基团的化合物(B)。

-(CF₂CF₂CF₂O)_a-           (1)

[a为5～30的实数。]

2.上述中记载的润滑剂，其中化合物(A)是具有3个以上羟基的化合物。

3.上述中记载的润滑剂，其中化合物(A)是具有4个以上羟基的化合物。

4.上述中记载的润滑剂，其中化合物(B)中，是一个末端为非极性基团，另一个末端具有2个以上羟基的化合物。

5.磁盘，其在支持体上至少形成记录层、保护层，其表面具有润滑层，其特征在于，该润滑层包含上述中记载的润滑剂。