[发明专利]用于测量风能设备的中空部件从基准位置偏移的方法和系统有效
申请号: | 200880116848.3 | 申请日: | 2008-11-12 |
公开(公告)号: | CN101868620A | 公开(公告)日: | 2010-10-20 |
发明(设计)人: | 克里斯托夫·卢克斯 | 申请(专利权)人: | 温可有限责任公司 |
主分类号: | F03D1/06 | 分类号: | F03D1/06;G01B11/16;G02B5/00;G01S17/08;G01C3/06;G01B17/04;G01M5/00 |
代理公司: | 北京市德恒律师事务所 11306 | 代理人: | 孙征;陆鑫 |
地址: | 德国*** | 国省代码: | 德国;DE |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 测量 风能 设备 中空 部件 基准 位置 偏移 方法 系统 | ||
1.一种用于测量风能设备(1)的基本上纵向延伸的中空部件(B,2,4)偏离基准位置的方法,其特征在于,在所述中空部件(B,2,4)内在第一位置上设置至少一个用于非接触定向测量距离的距离传感器(8.1,8.2),所述距离传感器沿位于所述中空部件(B,2,4)内的第二位置的方向测量至一个目标点的距离;在所述中空部件(B,2,4)内的第二位置上布置具有目标表面的测量目标(9,9.1,9.2),在测量范围内沿方向(x,y)看,所述目标表面至少相对参考平面(R)垂直延伸,所述参考平面(R)垂直于所述距离传感器(8.1,8.2)的测量方向(10,10.1,10.2);以及利用所述距离传感器(8.1,8.2)连续或间隔地测量至所述目标表面的距离,其中在计算单元中分析所述距离测量的结果并由此确定所述中空部件(B,2,4)从所述基准位置至少相对于所述方向(x,y)的方向分量的各个相关的偏移,在所述方向(x,y)上,所述目标表面横向于所述参考平面(R)延伸。
2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,为了测量所述中空部件在两个线性独立的方向分量上的所述偏移,至少布置两组非接触距离传感器(8.1,8.2)和测量目标(9.1,9.2),其中第一测量目标(9.1)具有目标表面,在测量范围内沿第一方向(x)看,所述目标表面相对第一参考平面垂直延伸,所述第一参考平面垂直于对应的所述距离传感器(8.1)的测量方向(10.1),第二测量目标(9.2)具有目标表面,在测量范围内沿与所述第一方向(x)不同的第二方向(y)看,所述目标表面垂直于第二参考平面(R)延伸,所述第二参考平面(R)垂直于对应的所述距离传感器(8.2)的测量方向(10.2),以及利用所述距离传感器(8.1,8.2)连续地或间隔地进行至各个对应的目标表面的距离测量,其中在计算单元中分析所述距离测量的结果并由此确定所述中空部件(B,2,4)在两个线性独立的方向(x,y)上相对所述基准位置的相应偏移。
3.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,为了测量所述中空部件在两个彼此线性独立的方向上的偏移,在所述中空部件(B,2,4)的内部布置一组距离传感器和测量目标(9),其中所述测量目标(9)具有目标表面,所述目标表面在每个测量点上距垂直于所述距离传感器的测量方向的参考平面(R)的距离不同;以及利用所述距离传感器连续地或间隔地进行至所述目标表面的距离测量,其中在计算单元中分析所述距离测量的结果并由此确定所述中空部件(B,2,4)相对所述基准位置的相应偏移。
4.根据上述权利要求中任一项所述的方法,其特征在于,所述中空部件是具有转子叶片根以及位于所述转子叶片根对面的转子叶片尖的转子叶片(4),以及所述第一位置朝向所述转子叶片根且所述第二位置由所述第一位置沿所述转子叶片尖的方向移动。
5.根据权利要求1至4中任一项所述的方法,其特征在于,所述中空部件是塔柱(2)或所述风能设备(1)的塔柱的一个部段。
6.一种用于测量风能设备(1)的基本上纵向延伸的中空部件(B,2,4)偏离基准位置的系统,其特征在于:
a)至少一个在所述中空部件(B,2,4)之中设置于在第一位置上的距离传感器(8.1,8.2),所述距离传感器(8.1,8.2)用于沿位于所述中空部件(B,2,4)内部的第二位置的方向进行非接触定向的距离测量;
b)至少一个在所述第二位置上、由所述至少一个距离传感器(8.1,8.2)测定方位的、具有目标表面的测量目标(9,9.1,9.2),所述目标表面在测量范围内沿方向(x,y)看垂直于参考平面(R)延伸,所述参考平面(R)垂直于至少一个距离传感器(8.1,8.2)的测量方向(10,10.1,10.2);以及
c)计算单元,所述计算单元用于分析由所述至少一个距离传感器(8.1,8.2)确定的至所述目标表面的距离并由这些数据获取所述中空部件(B,2,4)从所述基准位置至少相对于所述方向(x,y)的方向分量的偏移,在所述方向(x,y)上,所述目标表面横向于所述参考平面(R)延伸。
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